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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE DIFUSÃO DE DOPANTES EM LÂMINAS DE SILÍCIO PARA A FABRICAÇÃO DE CÉLULAS SOLARES

ConcedidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102012030606

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

30/11/2012

Publicação

09/09/2014

Andamento no INPI

  1. Depósito30/11/12
  2. Publicação09/09/14
  3. Exame
  4. Deferimento01/12/20
  5. Concessão09/02/21
  6. Em vigor30/11/32

Patente concedida em 09/02/2021 e em vigor até 30/11/2032. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:30/11/2032

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Última movimentação publicada pelo INPI: 09/02/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

União Brasileira de Educação e Assistência - Mantenedora da PUC RS

RS, BR

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Inventores

A. M. (pessoa física)

BR

I. Z. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

PROCESSO DE DIFUSÃO EM LÂMINAS DE SILÍCIO PARA FABRICAÇÃO DE CÉLULAS SOLARES. A presente invenção descreve novo processo para produção de células solares, a partir de lâminas de silício, por meio da difusão de boro (ou outro dopante tipo p) e fósforo (ou outro dopante tipo n) nestas lâminas, usando uma camada de silicato para proteger a face com boro (ou outro opante tipo p) da difusão de fósforo (ou outro dopánte tipo n). Evita-se o uso de passo térmico de crescimento de camada de óxido de silício e o uso de resina para proteção de uma das faces durante o ataque de óxidos com ácido fluorídico. Desta forma, apresenta vantagens, dentre estas a não utilização de resinafotossensível, ácido fluorídrico tampão e acetona, permitindo a redução do número de etapas, no mínimo quatro, em processos de fabricação de células solares. Consequentemente há uma diminuição em horas de recursoshumanos e de consumo de energia elétrica, de gases de alta pureza e de produtos químicos, reduzindo-se o custo de produção em comparação com os métodos convencionais.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 30/11/2012, observadas as condições legais

09/02/2021

RPI 2614

Deferimento

#9.1

01/12/2020

RPI 2604

Exigência preliminar (variante)

#6.22

14/01/2020

RPI 2558

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

04/12/2018

RPI 2500

8.7

01/03/2016

RPI 2356

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

01/12/2015

RPI 2343

Publicação do pedido de patente

#3.1

09/09/2014

RPI 2279

Pedido de patente depositado

#2.1

23/07/2013

RPI 2220

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 20120111333 em 30/11/2012 04:15(RJ).

05/03/2013

RPI 2200

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