Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 30/11/2012, observadas as condições legais
25/05/2021
RPI 2629
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Dado oficial do INPI
FORNO E MÉTODO PARA PROCESSAMENTO DE LÂMINAS DE SILÍCIO
ConcedidaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
102012030601Tipo
Patente de Invenção
Depósito
30/11/2012
Publicação
09/09/2014
Andamento no INPI
- Depósito30/11/12
- Publicação09/09/14
- Exame
- Deferimento30/03/21
- Concessão25/05/21
- Em vigor30/11/32
Patente concedida em 25/05/2021 e em vigor até 30/11/2032. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:30/11/2032
Última movimentação publicada pelo INPI: 25/05/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
UNIÃO BRASILEIRA DE EDUCAÇÃO E ASSISTÊNCIA - MANTENEDORA DA PUC RS
RS, BR
Inventores
A. M. (pessoa física)
BR
I. Z. (pessoa física)
BR
Dados técnicos
Classificação IPC
Resumo técnico
FORNO E MÉTODO PARA PROCESSAMENTO DE LÂMINAS DE SILÍCIO. A presente invenção faz referência a um forno e um método para difusão de dopantes ou para oxidação em lâminas de silício ou outro material semicondutor. O referido forno é um equipamento com câmara de processamento de quartzo ou SiC não tubular, no qual a seção reta da câmara pode ser quadrada ou retangular, conforme as dimensões e quantidade das lâminas de silício. O volume da câmara reduzido em relação ao de fornos tubulares, proporciona a diminuição no consumo de gases de alta pureza e de energia elétrica. O sistema de entrada e saída das lâminas na câmara de processamento, do controle de gases de alta pureza e do controle da temperatura é automatizado. Adicionalmente, a presente invenção descreve método de difisão de dopantes e/ou oxidação em lâminas de silício ou de outro semicondutor utilizando o forno.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
30/03/2021
RPI 2621
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
30/06/2020
RPI 2582
Exigência preliminar (variante)
#6.22
31/12/2019
RPI 2556
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
04/12/2018
RPI 2500
8.7
01/03/2016
RPI 2356
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
01/12/2015
RPI 2343
Publicação do pedido de patente
#3.1
09/09/2014
RPI 2279
Pedido de patente depositado
#2.1
23/07/2013
RPI 2220
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo 20120111328 em 30/11/2012 04:14(RJ).
05/03/2013
RPI 2200
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