Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 19/11/2012, observadas as condições legais
08/12/2020
RPI 2605
Dados do pedido
Número
102012029370Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 08/12/2020 e em vigor até 19/11/2032. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:19/11/2032
Última movimentação publicada pelo INPI: 08/12/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
DRAKA COMTEQ BV
NL
Inventores
I. M. (pessoa física)
NL
J. H. (pessoa física)
NL
M. S. (pessoa física)
NL
Classificação IPC
Prioridades unionistas
NL
2007831 · 21/11/2011
Resumo técnico
MÉTODO DE CONDUÇÃO DE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE PCVD E APARELHO DE CONDUÇÃO DE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE PCVD A presente invenção refere-se a um aparelho de condução de um processo de deposição de PCVD, em que uma ou mais camadas de vidro dopado ou não dopado são revestidas sobre o lado interno de um tubo de substrato de vidro, em que o aparelho compreende um aplicador que possui uma parede interna e uma parede externa e uma guia de micro-ondas que se abre para o aplicador, em que o aplicador estende-se em volta de um eixo cilíndrico e que é equipado com uma passagem adjacente à parede interna, através da qual podem sair as micro-ondas fornecidas por meio da guia de micro-ondas, sobre esse eixo cilíndrico o tubo de substrato pode ser posicionado, enquanto o aplicador é completamente envolvido por uma fornalha que se estende sobre o mencionado eixo cilíndrico.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 19/11/2012, observadas as condições legais
08/12/2020
RPI 2605
#9.1
24/09/2020
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#6.1
05/05/2020
RPI 2574
09/07/2019
RPI 2531
#6.6.1
27/03/2018
RPI 2464
#3.1
25/03/2014
RPI 2255
#2.1
16/04/2013
RPI 2206
#2.10
Número de Protocolo 18120042657 em 19/11/2012 03:45(SP).
02/01/2013
RPI 2191
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