Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 26/06/2014, observadas as condições legais
22/06/2021
RPI 2633
Dados do pedido
Número
102014015871Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 22/06/2021 e em vigor até 26/06/2034. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:26/06/2034
Última movimentação publicada pelo INPI: 22/06/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
DRAKA COMTEQ BV
NL
Inventores
G. K. (pessoa física)
NL
I. M. (pessoa física)
NL
J. H. (pessoa física)
NL
M. S. (pessoa física)
NL
Classificação IPC
Prioridades unionistas
NL
2011077 · 01/07/2013
Resumo técnico
MÉTODO PARA A FABRICAÇÃO DE UM PRECURSOR PARA UMA PRÉ-FORMA PRIMÁRIA PARA FIBRAS ÓPTICAS POR MEIO DE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE PLASMA E PRECURSOR PARA UMA PRÉ-FORMA PRIMÁRIA PROVIDA DE CAMADAS DE SÍLICA NÃO VITRIFICADAS E VITRIFICADAS DEPOSITADAS EM SUA SUPERFÍCIE INTERNA A presente invenção se refere a um método para a fabricação de um precursor. Em outras palavras, a presente invenção se refere a um método para uma pré-forma primária para fibras ópticas por meio de um processo de deposição de plasma interno, esse método compreende as etapas de: provisão de um tubo de substrato oco tendo um lado de fornecimento e um lado de descarga; criação de uma primeira zona de reação de plasma tendo primeiras condições de reação no interior do dito tubo de substrato oco por meio de radiação eletromagnética para efetuar a deposição de camadas de sílica não vitrificadas em pelo menos parte da superfície interna do dito tubo de substrato no ou próximo a um ponto de reversão no lado de descarga para prover um tubo de substrato tendo camadas não vitrificadas em pelo menos uma parte de sua superfície interna; e, subsequentemente, criação de uma segunda zona de reação de plasma tendo segundas condições de reação no interior do dito tubo de substrato oco por meio de radiação eletromagnética para efetuar a deposição de camadas de sílica vitrificadas no dito tubo de substrato tendo camadas não vitrificadas em pelo menos uma parte de sua superfície interna para obter um tubo de substrato tendo camadas de sílica não vitrificadas e vitrificadas depositadas; e resfriamento do tubo de substrato tendo camadas de sílica não vitrificadas e vitrificadas depositadas obtidas na etapa iii) para obter o dito precursor para uma pré-forma primária.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 26/06/2014, observadas as condições legais
22/06/2021
RPI 2633
#9.1
11/05/2021
RPI 2627
#3.8
Rerefente à RPI 2431 de 17/11/2015, quanto ao item (54)
13/04/2021
RPI 2623
#6.21
15/10/2019
RPI 2545
#6.6.1
27/02/2018
RPI 2460
#3.1
17/11/2015
RPI 2341
#2.1
09/09/2014
RPI 2279
#2.10
Número de Protocolo 18140012433 em 26/06/2014 04:02(SP).
12/08/2014
RPI 2275
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