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Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA A FABRICAÇÃO DE UM PRECURSOR PARA UMA PRÉ-FORMA PRIMÁRIA PARA FIBRAS ÓPTICAS POR MEIO DE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE PLASMA INTERNO

ConcedidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102014015871

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

26/06/2014

Publicação

17/11/2015

Andamento no INPI

  1. Depósito26/06/14
  2. Publicação17/11/15
  3. Exame
  4. Deferimento11/05/21
  5. Concessão22/06/21
  6. Em vigor26/06/34

Patente concedida em 22/06/2021 e em vigor até 26/06/2034. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:26/06/2034

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Última movimentação publicada pelo INPI: 22/06/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

DRAKA COMTEQ BV

NL

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Inventores

G. K. (pessoa física)

NL

I. M. (pessoa física)

NL

J. H. (pessoa física)

NL

M. S. (pessoa física)

NL

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

NL

2011077 · 01/07/2013

Resumo técnico

MÉTODO PARA A FABRICAÇÃO DE UM PRECURSOR PARA UMA PRÉ-FORMA PRIMÁRIA PARA FIBRAS ÓPTICAS POR MEIO DE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE PLASMA E PRECURSOR PARA UMA PRÉ-FORMA PRIMÁRIA PROVIDA DE CAMADAS DE SÍLICA NÃO VITRIFICADAS E VITRIFICADAS DEPOSITADAS EM SUA SUPERFÍCIE INTERNA A presente invenção se refere a um método para a fabricação de um precursor. Em outras palavras, a presente invenção se refere a um método para uma pré-forma primária para fibras ópticas por meio de um processo de deposição de plasma interno, esse método compreende as etapas de: provisão de um tubo de substrato oco tendo um lado de fornecimento e um lado de descarga; criação de uma primeira zona de reação de plasma tendo primeiras condições de reação no interior do dito tubo de substrato oco por meio de radiação eletromagnética para efetuar a deposição de camadas de sílica não vitrificadas em pelo menos parte da superfície interna do dito tubo de substrato no ou próximo a um ponto de reversão no lado de descarga para prover um tubo de substrato tendo camadas não vitrificadas em pelo menos uma parte de sua superfície interna; e, subsequentemente, criação de uma segunda zona de reação de plasma tendo segundas condições de reação no interior do dito tubo de substrato oco por meio de radiação eletromagnética para efetuar a deposição de camadas de sílica vitrificadas no dito tubo de substrato tendo camadas não vitrificadas em pelo menos uma parte de sua superfície interna para obter um tubo de substrato tendo camadas de sílica não vitrificadas e vitrificadas depositadas; e resfriamento do tubo de substrato tendo camadas de sílica não vitrificadas e vitrificadas depositadas obtidas na etapa iii) para obter o dito precursor para uma pré-forma primária.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 26/06/2014, observadas as condições legais

22/06/2021

RPI 2633

Deferimento

#9.1

11/05/2021

RPI 2627

Retificação de publicação

#3.8

Rerefente à RPI 2431 de 17/11/2015, quanto ao item (54)

13/04/2021

RPI 2623

Exigência preliminar

#6.21

15/10/2019

RPI 2545

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

27/02/2018

RPI 2460

Publicação do pedido de patente

#3.1

17/11/2015

RPI 2341

Pedido de patente depositado

#2.1

09/09/2014

RPI 2279

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 18140012433 em 26/06/2014 04:02(SP).

12/08/2014

RPI 2275

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