Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI
#11.4
23/03/2021
RPI 2620
Dados do pedido
Número
102012006259Tipo
Depósito
Publicação
Pedido deferido em 08/12/2020, mas arquivado por falta do pagamento da concessão (art. 38 da LPI). A carta-patente nunca foi emitida.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 23/03/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
OERLIKON METCO AG, WOHLEN
CH
SULZER MARKETS AND TECHNOLOGY AG
CH
SULZER METCO AG
DE
Inventores
M. G. (pessoa física)
CH
R. D. (pessoa física)
CH
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
11159374.5 · 23/03/2011
Resumo técnico
MÉTODO DE PULVERIZAÇÃO DE PLASMA PARA A FABRICAÇÃO DE UMA MEMBRANA CONDUTORA DE ÍONS. A PRESENTE INVENÇÃO REFERE-SE A UM MÉTODO DE PULVERIZAÇÃO DE PLASMA PARA A FABRICAÇÃO DE UMA MEMBRANA CONDUTORA DE ÍONS, CUJA MEMBRANA CONDUTORA DE ÍONS TEM UMA CONDUTIVIDADE DE ÍONS, EM CUJO MÉTODO A MEMBRANA É DEPOSITADA COMO UMA CAMADA (11) SOBRE UM SUBSTRATO (10) EM UMA CÂMARA DE PROCESSO, E NO QUAL UM MATERIAL DE PARTIDA (P) É PULVERIZADO SOBRE UMA SUPERFÍCIE DO SUBSTRATO (10) SOB A FORMA DE UM FEIXE DE PROCESSO (2) POR MEIO DE GÁS DE PROCESSO (G), SENDO QUE O MATERIAL DE PARTIDA É INJETADO EM UM PLASMA A UMA BAIXA PRESSÃO DE PROCESSO, QUE É DE NO MÁXIMO 10.00 Pa, E É PARCIAL OU COMPLETAMENTE FUNDIDO NO PLASMA. UM OXIGÊNIO (O~ 2~; 22) É SUPRIDO PARA A CÂMARA DE PROCESSO (12) DURANTE A PULVERIZAÇÃO A UMA TAXA DE FLUXO CALCULADA EM PELO MENOS 1%, DE PREFERÊNCIA PELO MENOS 2%, DA TAXA DE FLUXO DO GÁS DE PROCESSO.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.4
23/03/2021
RPI 2620
#9.1
08/12/2020
RPI 2605
#6.1
19/05/2020
RPI 2576
#25.4
01/10/2019
RPI 2543
09/07/2019
RPI 2531
#6.6.1
03/04/2018
RPI 2465
#25.1
16/06/2015
RPI 2319
#3.1
21/05/2013
RPI 2211
#2.1
08/01/2013
RPI 2192
#2.10
Número de Protocolo 20120023992 em 20/03/2012 04:35(RJ).
03/07/2012
RPI 2165
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