Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1975 de 11/11/2008.
10/27/2009
RPI 2025
Application data
Number
PI9916346Type
Filing
Publication
PCT
US1999017990 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Rockwell Science Center, LLC
US
Inventors
D. T. (pessoa física)
US
L. J. (pessoa física)
US
M. C. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
09/333385 · 06/15/1999
US
PCT/US98/26610 · 12/15/1998
Abstract
"ESPELHO ELETRO-QUÍMICO PARA CONTROLAR DE MANEIRA REVERSÍVEL A REFLEXÃO DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA". Um espelho é eletroquímico inclui um primeiro eletrodo transparente 106 e um segundo eletrodo 110. Uma solução eletrolítica 112 colocada entre os primeiro e segundo eletrodos contém íons 116 de um metal que pode eletrodepositar sobre os eletrodos. Um potencial elétrico negativo 118 aplicado ao primeiro eletrodo faz com que material depositado seja dissolvido a partir do segundo eletrodo para a solução eletrolítica e ser depositado a partir da solução sobre o primeiro eletrodo, afetando com isto a reflexividade do espelho para radiação eletromagnética 122. Uma camada de modificação superficial 108, aplicada ao primeiro eletrodo, assegura que o eletrodepositado é substancialmente uniforme resultando em uma camada de espelho que aumenta a reflexividade do espelho. Um potencial elétrico positivo 118 aplicado ao primeiro eletrodo faz com que material depositado seja dissolvido a partir do primeiro eletrodo e eletrodepositado a partir da solução sobre o segundo eletrodo, diminuindo com isto a reflexividade do espelho.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1975 de 11/11/2008.
10/27/2009
RPI 2025
#8.6
Referente à 7ª, 8ª e 9ª anuidade.
11/11/2008
RPI 1975
#1.3
10/02/2001
RPI 1604
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