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Official data from INPI

ESPELHO ELETRO-QUÍMICO PARA CONTROLAR DE MANEIRA REVERSÍVEL A REFLEXÃO DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US1999017990

Application data

Number

PI9916346

Type

Invention Patent

Filing

08/09/1999

Publication

10/02/2001

PCT

US1999017990

Progress at the INPI

  1. Filing08/09/99
  2. Publication10/02/01
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/27/2009. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Rockwell Science Center, LLC

US

Inventors

D. T. (pessoa física)

US

L. J. (pessoa física)

US

M. C. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

09/333385 · 06/15/1999

US

PCT/US98/26610 · 12/15/1998

Abstract

"ESPELHO ELETRO-QUÍMICO PARA CONTROLAR DE MANEIRA REVERSÍVEL A REFLEXÃO DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA". Um espelho é eletroquímico inclui um primeiro eletrodo transparente 106 e um segundo eletrodo 110. Uma solução eletrolítica 112 colocada entre os primeiro e segundo eletrodos contém íons 116 de um metal que pode eletrodepositar sobre os eletrodos. Um potencial elétrico negativo 118 aplicado ao primeiro eletrodo faz com que material depositado seja dissolvido a partir do segundo eletrodo para a solução eletrolítica e ser depositado a partir da solução sobre o primeiro eletrodo, afetando com isto a reflexividade do espelho para radiação eletromagnética 122. Uma camada de modificação superficial 108, aplicada ao primeiro eletrodo, assegura que o eletrodepositado é substancialmente uniforme resultando em uma camada de espelho que aumenta a reflexividade do espelho. Um potencial elétrico positivo 118 aplicado ao primeiro eletrodo faz com que material depositado seja dissolvido a partir do primeiro eletrodo e eletrodepositado a partir da solução sobre o segundo eletrodo, diminuindo com isto a reflexividade do espelho.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho publicado na RPI 1975 de 11/11/2008.

10/27/2009

RPI 2025

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 7ª, 8ª e 9ª anuidade.

11/11/2008

RPI 1975

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/02/2001

RPI 1604

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