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Official data from INPI

TÂNTALO DE ALTO GRAU DE PUREZA E PRODUTOS CONTENDO O MESMO COMO ALVOS DE CREPITAÇÃO

ArquivadaInvention PatentPCT · US1999027832

Application data

Number

PI9915674

Type

Invention Patent

Filing

11/24/1999

Publication

01/22/2002

PCT

US1999027832

Progress at the INPI

  1. Filing11/24/99
  2. Publication01/22/02
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/06/2007. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

C. C. (pessoa física)

US

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Inventors

C. M. (pessoa física)

US

J. J. (pessoa física)

US

L. J. (pessoa física)

US

M. K. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

09/199,569 · 11/25/1998

Abstract

"TÂNTALO DE ALTO GRAU DE PUREZA E PRODUTOS CONTENDO O MESMO COMO ALVOS DE CREPITAÇÃO". São descritos tântalo metálico de alto grau de pureza e ligas contendo o mesmo. O tântalo metálico tem de preferência um grau de pureza de pelo menos 99,995%, sendo mais preferível de pelo menos 99,999%. Além disso são descritos o tântalo metálico e suas ligas que ou tem uma granulometria de aproximadamente 50 micra ou menos ou uma textura em que uma intensidade (100) dentro de qualquer incremento de 5% de espessura é inferior a aproximadamente 15 aleatório, ou um log incremental de razão de intensidades (111) : (100) acima de aproximadamente -4,0 ou qualquer combinação destas propriedades. Também descritos são artigos e componentes fabricados do tântalo metálico que incluem, sem limitação, alvos de crepitação, caixas de capacitor, camadas de película de resistência e semelhantes. Também descrito é um processo para a preparação de metal de alto grau de pureza que inclui a etapa de se fazer reagir um sal contendo o tântalo com pelo menos um composto capaz de reduzir este sal a pó de tântalo e a um segundo sal em um recipiente de reação. O recipiente de reação ou o revestimento do recipiente de ração e o agitador ou o revestimento do agitador são fabricados de um material metálico que tem uma pressão de vapor igual ou superior à do tântalo fundido. O tântalo de alto grau de pureza tem, de preferência, uma micro-estrutura fina e uniforme.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

03/06/2007

RPI 1887

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

07/18/2006

RPI 1854

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

01/22/2002

RPI 1620

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