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Official data from INPI

FORNO DE TRATAMENTO TÉRMICO CONTÍNUO E PROCESSO DE CONTROLE DA ATMOSFERA E PROCESSO DE RESFRIAMENTO NO FORNO

ArquivadaInvention PatentPCT · JP1999001498

Application data

Number

PI9904910

Type

Invention Patent

Filing

03/25/1999

Publication

06/20/2000

PCT

JP1999001498

Progress at the INPI

  1. Filing03/25/99
  2. Publication06/20/00
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 09/27/2005. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

K. C. (pessoa física)

JP

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Inventors

I. S. (pessoa física)

JP

N. U. (pessoa física)

JP

S. I. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

JP

10/100536 · 03/26/1998

Abstract

Patente de Invenção: "FORNO DE TRATAMENTO TÉRMICO CONTÍNUO E PROCESSO DE CONTROLE DA ATMOSFERA E PROCESSO DE RESFRIAMENTO NO FORNO" . Um forno de tratamento térmico contínuo tendo uma de uma pluralidade de zonas do forno, exceto a primeira e a última das zonas, como uma zona de resfriamento rápido 11, para resfriamento rápido de um material por sopro de um gás atmosférico, que compreende uma câmara vedada por cilindro 3 dividida na entrada por um primeiro e segundo dispositivos de vedação por cilindro 4A e 4B de a jusante e um terceiro dispositivo de vedação por cilindro 4C na saída como meios de vedação para gás atmosférico, e em que a entrada do primeiro dispositivo de vedação por cilindro e a saída do terceiro dispositivo de vedação por cilindro são conectadas, e/ou a câmara vedada por cilindro e uma parte de corrente mais elevada 6 na zona de resfriamento rápido são conectadas, e em que a concentração de hidrogênio no forno é controlada a 10% ou mais alto na zona de resfriamento rápido e é controlada a 10% ou mais baixo na zona do forno na entrada da zona de resfriamento rápido. Um forno de tratamento térmico contínuo capaz de evitar a mistura de gases atmosféricos na zona de resfriamento rápido e o gás atmosférico na zona (zona de aquecimento, zona de resfriamento ou semelhantes) adjacente à zona de resfriamento rápido de um sistema de resfriamento por jato de gás por um meio simples, e um processo de controle do gás atmosférico no forno capaz de evitar nitretação são proporcionados.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

09/27/2005

RPI 1812

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

01/11/2005

RPI 1775

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

06/20/2000

RPI 1537

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