Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: A61K 7/021; A61K 7/043.
03/27/2018
RPI 2464
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Official data from INPI
PRODUTO COSMÉTICO PARA MAQUIAGEM, PROCESSO DE MAQUIAGEM, KIT DE MAQUIAGEM, UTILIZAÇÃO DO PRODUTO E SUPORTE DE MAQUIAGEM.
Arquivada/ExtintaInvention Patent
Application data
Number
PI9903099Type
Invention Patent
Filing
06/23/1999
Publication
02/06/2001
Progress at the INPI
- Filing06/23/99
- Publication02/06/01
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/27/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
L'Oreal
FR
Inventors
J. S. (pessoa física)
FR
Technical data
IPC Classification
Priority claims
FR
9808085 · 06/25/1998
Abstract
''PRODUTO COSMÉTICO PARA MAQUIAGEM, PROCESSO DE MAQUIAGEM, KIT DE MAQUIAGEM, UTILIZAÇÃO DO PRODUTO E SUPORTE DE MAQUIAGEM'' A presente invenção se refere a um novo produto de maquiagem compreendendo uma primeira tintura fotocromática ou composição de pigmento destinada a formar uma camada-base sobre um suporte e uma segunda composição contendo um agente filtrante de UV, destinado a formar sobre a camada-base uma camada superior compreendendo padrões decorativos. Dependendo da natureza da luz iluminando o suporte, é possível ver os mencionados padrões aparecerem ou desaparecerem. Este produto é destinado em particular à pintura das unhas, lábios, face, pálpebras ou do corpo. A presente invenção também se refere a um processo de maquiagem para o rosto, lábios ou corpo humano.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1910 de 14/08/2007.
12/06/2011
RPI 2135
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 4ª, 5ª, 6ª, 7ª e 8ª anuidades.
08/14/2007
RPI 1910
Publicação do pedido de patente
#3.1
02/06/2001
RPI 1570
Pedido de patente depositado
#2.1
11/21/2000
RPI 1559
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