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Official data from INPI

PROCESSO E DISPOSITIVO PARA EXCITAÇÃO DE UMA DESCARGA ELÉTRICA DE FREQÜÊNCIA ELEVADA EM UM LASER DE GÁS

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI9902018

Type

Invention Patent

Filing

03/25/1999

Publication

01/16/2001

Progress at the INPI

  1. Filing03/25/99
  2. Publication01/16/01
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/25/1999 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/15/2005. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

C. C. (pessoa física)

FR

Inventors

A. V. (pessoa física)

FR

Technical data

IPC Classification

Abstract

Patente de Invenção: "PROCESSO E DISPOSITIVO PARA A EXCITAÇÃO DE UMA DESCARGA ELÉTRICA DE FREQÜÊNCIA ELEVADA EM UM LASER DE GÁS" . A invenção refere-se ao domínio da eletrônica quântica e pode ser utilizada nos lasers de gás, tais como lasers CO~ 2~, de nitrogênio e os lasers de excímeros. O processo para a excitação de descarga de alta freqüência em um laser de gás consiste em levar, além da corrente de base de mistura gasosa do laser, para a zona de saída do gás proveniente do espaço entre os eletrodos, uma corrente suplementar de mistura de gases resfriados eletricamente neutros. Isso permite um aumento da freqüência de sucessão dos pulsos, As particularidades do dispositivo para a realização do processo permitem aumentar o coeficiente de eficácia do laser e simplificar a construção do mesmo.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

03/15/2005

RPI 1784

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

09/08/2004

RPI 1757

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/16/2001

RPI 1567

Pedido de patente depositado

#2.1

11/21/2000

RPI 1559

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