Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
03/15/2005
RPI 1784
Application data
Number
PI9902018Type
Filing
Publication
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/25/1999 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/15/2005. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
C. C. (pessoa física)
FR
Inventors
A. V. (pessoa física)
FR
IPC Classification
Abstract
Patente de Invenção: "PROCESSO E DISPOSITIVO PARA A EXCITAÇÃO DE UMA DESCARGA ELÉTRICA DE FREQÜÊNCIA ELEVADA EM UM LASER DE GÁS" . A invenção refere-se ao domínio da eletrônica quântica e pode ser utilizada nos lasers de gás, tais como lasers CO~ 2~, de nitrogênio e os lasers de excímeros. O processo para a excitação de descarga de alta freqüência em um laser de gás consiste em levar, além da corrente de base de mistura gasosa do laser, para a zona de saída do gás proveniente do espaço entre os eletrodos, uma corrente suplementar de mistura de gases resfriados eletricamente neutros. Isso permite um aumento da freqüência de sucessão dos pulsos, As particularidades do dispositivo para a realização do processo permitem aumentar o coeficiente de eficácia do laser e simplificar a construção do mesmo.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
03/15/2005
RPI 1784
#11.1
09/08/2004
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#3.1
01/16/2001
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#2.1
11/21/2000
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