PÓ DE COBRE DE ALTA ÁREA SUPERFICIAL E BAIXA DENSIDADE, MISTURAS COM O MESMO E PROCESSO DE ELETRODEPOSIÇÃO PARA FAZÊ-LO

IPC Classification

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Abstract

''PÓ DE COBRE DE ALTA ÁREA SUPERFICIAL E BAIXA DENSIDADE, MISTURAS COM O MESMO E PROCESSO DE ELETRODEPOSIÇÃO PARA FAZÊ-LO''. Esta invenção refere-se a um pó de cobre de alta área superficial e baixa densidade tendo uma densidade aparente na faixa de cerca de 0,20 a cerca de 0,60 grama por centímetro cúbico, e uma área superficial de pelo menos 0,5 metro quadrado por grama. Esta invenção também se refere a um processo de eletrodeposição para fazer o pó de cobre acima eletrodepositando o pó de cobre de uma solução de eletrólito usando uma combinação de parâmetros de processo críticos. Estes parâmetros críticos incluem: uma concentração de íons cobre para a solução de eletrólito na faixa de cerca de 2 a cerca de 7 gramas por litro; uma concentração de íons cloro livres para a solução de eletrólito na faixa de cerca de 8 a cerca de 20 ppm; e um nível de impurezas para a solução de eletrólito não maior que cerca de 1,0 grama por litro; e uma solução de eletrólito que esteja livre de aditivos orgânicos.