Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
08/18/2009
RPI 2015
Application data
Number
PI9813405Type
Filing
Publication
PCT
KR1998000414 The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 08/18/2009. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Sansung Electronics Co., Ltd
KR
Inventors
J. J. (pessoa física)
KR
Priority claims
KR
9766751 · 12/08/1997
Abstract
MÁSCARA DE AMPLITUDE, E APARELHO E PROCESSO PARA FABRICAÇÃO DE FILTRO DE RETÍCULA DE LONGA DURAÇÃO SUANDO A MESMA Uma máscara de amplitude, e um aparelho e processo para fabricação de um filtro de retícula de longa duração que usa a mesma, são providos. Quando uma retícula de longa duração é fabrica seletivamente passando luz de laser a uma fibra ótica, a máscara de amplitude periodicamente passa luz de laser até a fibra ótica. A máscara de amplitude inclui duas máscaras (300) que tem áreas de passagem alternantes periodicamente para a passagem da luz do laser e áreas de não passagem para impedir a passagem da luz do laser, pelo que as duas máscaras (300) são continuamente giradas em direções opostas. O período da área de passagem (308), deste modo, muda continuamente. Nesta máscara, duas máscaras (300) cada uma tendo um período pré determinado são giradas em direções opostas, para assim proverem um período da máscara de amplitude de dependente do ângulo de rotação. Assim, o período da máscara de amplitude pode ser continuamente trocado.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
08/18/2009
RPI 2015
#6.1
06/10/2008
RPI 1953
#1.3
11/14/2000
RPI 1558
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