Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
06/22/2004
RPI 1746
Application data
Number
PI9810241Type
Filing
Publication
PCT
JP1998002487 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 06/04/1998 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/22/2004. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Toto Ltd
JP
Inventors
M. H. (pessoa física)
JP
M. S. (pessoa física)
JP
M. Y. (pessoa física)
JP
M. K. (pessoa física)
JP
M. M. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
10/112787 · 04/08/1998
JP
9/161864 · 06/04/1997
JP
9/161865 · 06/04/1997
Abstract
"AGENTE DE LIMPEZA PARA LIMPAR A SUPERFÍCIE DE UM SUBSTRATO, COMPOSIÇÃO DE SUB-REVESTIMENTO PARA FORMAR UM SUB-REVESTIMENTO SOBRE A SUPERFÍCIE DE UM SUBSTRATO, PROCESSO PARA FORMAR UM REVESTIMENTO FOTOCATALITICAMENTE HIDROFILIFICÁVEL SOBRE A SUPERFÍCIE DE UM SUBSTRATO, CONJUNTO, E, MEMBRO". São descritos um processo para formar um revestimento fotocataliticamente hidrofilificável, envolvendo um processo para tratar a superfície de um substrato antes da formação de um revestimento fotocataliticamente hidrofilificável, que pode formar um bom revestimento fotocataliticamente hidrofilificável, e um agente de limpeza e uma composição de sub-revestimento para o processo. O processo para formar um revestimento fotocataliticamente hidrofilificável compreende as etapas de : limpar a superfície de um substrato com um agente de limpeza predeterminado; revestir um líquido de revestimento fotocataliticamente hidrofilificável sobre o substrato tratado; e curar o revestimento ou, alternativamente, compreende as etapas de : limpar a superfície de um substrato com um agente de limpeza predeterminado; aplicar uma predeterminada composição de sub-revestimento sobre a superfície do substrato para formar um sub-revestimento; revestir um líquido de revestimento fotocataliticamente hidrofilificável sobre o sub-revestimento; e curar o revestimento para formar um revestimento fotocataliticamente hidrofilificável. O agente de limpeza compreende pelo menos um membro selecionado do grupo consistindo de um tensoativo, um abrasivo, um ácido e uma base. A composição de sub-revestimento para o sub-revestimento compreende pelo menos uma partícula de óxido inorgânico ou um silicone ou um precursor de silicone e um solvente.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
06/22/2004
RPI 1746
#11.1
11/04/2003
RPI 1713
#1.3
09/05/2000
RPI 1548
From the same holder
Same category
Patent monitoring
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.