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PROCESSO DE TRATAMENTO DE UM SUBSTRATO, COMPOSIÇÃO FLUOROQUÍMICA, USO DA MESMA, SUBSTRATO, MONÔMERO, E, COMPOSIÇÃO DE MONÔMERO

ArquivadaInvention PatentPCT · US1998009701

Application data

Number

PI9808776

Type

Invention Patent

Filing

05/14/1998

Publication

09/05/2000

PCT

US1998009701

Progress at the INPI

  1. Filing05/14/98
  2. Publication09/05/00
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 05/14/1998 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Applicants and inventors

Applicants

Minnesota Mining And Manufacturing Company

US

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Inventors

K. A. (pessoa física)

BE

P. E. (pessoa física)

BE

Technical data

Priority claims

EP

97201390.8 · 05/14/1997

Abstract

"PROCESSO DE TRATAMENTO DE UM SUBSTRATO, COMPOSIÇÃO FLUOROQUÍMICA, USO DA MESMA, SUBSTRATO, MONÔMERO, E, COMPOSIÇÃO DE MONÔMERO". A presente invenção fornece uma composição fluoroquímica compreendendo um polímero derivado a partir da polimerização de monômero correspondendo à fórmula geral (I) em que R~ f~ é selecionado a partir do grupo que consiste de grupos alifáticos perfluorados ou parcialmente fluorados; L¹ e L², cada qual independentemente, representam um grupo de ligação divalente orgânico e podem ser o mesmo ou diferentes; L³ representa um grupo de ligação orgânico com uma valência de n + 1; t é 0 ou 1; n é um inteiro de 2 a 20. A¹ e A², cada qual independentemente, representa um resíduo divalente obtido pela remoção de dois grupos -NCO a partir de um diisocianato correspondente e podem ser o mesmo ou diferentes; X¹ e X² são, cada qual independentemente, selecionados a partir do grupo que consiste de O, NH e S; B¹ representa um resíduo hidrofílico obtido pela remoção dos grupos HX¹ e HX² a partir de um composto HX¹-B¹-H²X que compreende um grupo poli(oxialquileno); G representa um grupo polimerizável de radical livre; s é 0 ou 1, com a condição de que quando s é 0, L² representa um segmento hidrofílico compreendendo um grupo poli (oxialquileno) ou o referido polímero é derivado a partir de uma copolimerização de um monômero de acordo com a fórmula (I) e de um monômero contendo um grupo poli(oxialquileno). Substratos tratados com a composição fluoroquímica apresentam boas propriedades de liberação de mancha, em particular para manchas oleosas e manchas à base de água, tais que chá e café.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

06/22/2004

RPI 1746

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

11/04/2003

RPI 1713

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

09/05/2000

RPI 1548

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