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Official data from INPI

PROCESSO DE CONTROLE DE CORROSÃO CAUSADA POR GÁS SULFÍDRICO E POR ÍON CIANETO EM MEIO AQUOSO NÃO-AERADO, EM UNIDADE DE REFINO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI9806587

Type

Invention Patent

Filing

11/12/1998

Publication

07/18/2000

Progress at the INPI

  1. Filing11/12/98
  2. Publication07/18/00
  3. Examination
  4. Allowance05/24/05
  5. Grant08/30/05
  6. Expired10/15/19

The letters patent expired on 10/15/2019: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/15/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Petróleo Brasileiro S.A. - PETROBRÁS

RJ, BR

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Inventors

L. C. (pessoa física)

BR

W. B. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

PROCESSO DE CONTROLE DE CORROSÃO CAUSADA POR GÁS SULFÍDRICO E POR ÍON CIANETO EM MEIO AQUOSO NÃO-AERADO, EM UNIDADE DE REFINO Recircula-se, por meio de uma linha de recirculação, parte, inicialmente entre 5% a 15% da vazão de água residual e finalmente entre 15% a 70%, da água residual tomada de um ponto substancialmente a pressão ambiente na água residual de uma unidade de refino, (FCC, tipicamente ) para a linha de água de lavagem num ponto a montante da bomba de alta pressão alimentadora dos bicos injetores de água de lavagem das regiões de média e alta pressão de um sistema de alimentação de água de lavagem e injeta-se por bombeamento um oxidante na dita linha de recirculação.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

PATENTE EXTINTA EM 12.11.2018

10/15/2019

RPI 2545

24.5

Referente ao despacho 24.2 na RPI 2201 de 12/03/2013.

03/26/2013

RPI 2203

Exigência de complementação da retribuição anual

#24.2

Referente 8ª anuidade, guia 220505415027 de 15/12/2005.

03/12/2013

RPI 2201

Concessão da patente

#16.1

08/30/2005

RPI 1808

Deferimento

#9.1

05/24/2005

RPI 1794

Publicação do pedido de patente

#3.1

07/18/2000

RPI 1541

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