Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: A61K 7/043; A61K 7/40; A61P 17/16.
03/27/2018
RPI 2464
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Official data from INPI
COMPOSIÇÃO COSMÉTICA DE ESMALTE À BASE DE NITROCELULOSE, PROCESSO DE MAQUILAGEM E /OU TRATAMENTO DAS UNHAS E UTILIZAÇÃO DE PELO MENOS UM COMPOSTO.
Arquivada/ExtintaInvention Patent
Application data
Number
PI9805784Type
Invention Patent
Filing
12/21/1998
Publication
04/11/2000
Progress at the INPI
- Filing12/21/98
- Publication04/11/00
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants and inventors
Applicants
L'oreal
FR
Inventors
C. F. (pessoa física)
US
R. R. (pessoa física)
FR
Technical data
IPC Classification
Priority claims
FR
9716626 · 12/29/1997
Abstract
"COMPOSIÇÃO COSMÉTICA DE ESMALTE À BASE DE NITROCELULOSE, PROCESSO DE MAQUILAGEM E/OU DE TRATAMENTO DAS UNHAS E UTILIZAÇÃO DE PELO MENOS UM COMPOSTO" . A presente invenção refere-se a uma composição cosmética de esmalte. Essa composição à base de nitrocelulose contém em um sistema solvente para esmaltes, pelo menos um agente plastificante, pelo menos uma resina e pelo menos uma substância instável com função amina ou amida, e também, em uma quantidade eficaz, pelo menos um agente estabilizante da referida substância instável escolhido entre N-clorosucinimido e ácido bórico. Utilização para a realização de esmalte de unhas, de maquilagem ou de tratamento, com boa estabilidade com o passar do tempo.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1872 de 21/11/2006.
12/06/2011
RPI 2135
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 4ª, 5ª, 6ª, 7ª e 8ª anuidades.
11/21/2006
RPI 1872
11.14
Revista 1713 de 04/11/2003
06/22/2004
RPI 1746
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
11/04/2003
RPI 1713
Publicação do pedido de patente
#3.1
04/11/2000
RPI 1527
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