Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: A61K 7/40; A61K 7/48; A61P 17/16.
03/27/2018
RPI 2464
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Official data from INPI
COMPOSIÇÃO COSMÉTICA E/OU DERMATOLÓGICA, UITILIZAÇÃO COSMÉTICA DA COMPOSIÇÃO E PROCESSO COSMÉTICO DE LIMPEZA E/OU DE TRATAMENTO DA PELE.
Arquivada/ExtintaInvention Patent
Application data
Number
PI9805231Type
Invention Patent
Filing
11/25/1998
Publication
06/06/2000
Progress at the INPI
- Filing11/25/98
- Publication04/11/00
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants and inventors
Applicants
L'Oreal
FR
Inventors
I. J. (pessoa física)
FR
Technical data
IPC Classification
Priority claims
FR
97/15860 · 12/15/1997
Abstract
"COMPOSIÇÃO COSMÉTICA E/OU DERMATOLÓGICA, UTILIZAÇÃO COSMÉTICA DA COMPOSIÇÃO E PROCESSO COSMÉTICO DE LIMPEZA E/OU DE TRATAMENTO DA PELE" . A presente invenção trata de uma composição cosmética e/ou dermatológica que se apresenta em forma de pó e comporta ácido ascórbico pulverulento, amido e pelo menos um tensoativo aniônico. De preferência, a composição contém um polímero hidrossolúvel. O pó obtido possui boas propriedades espumantes quando molhado, e é particularmente útil para a limpeza e/ou o tratamento da pele. De maneira preferida, a composição de acordo com a presente invenção está contida em uma esponja que é molhada e aplicada diretamente sobre a pele.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1928 de 18/12/2007.
11/16/2011
RPI 2132
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente a 8ª e 9ª anuidades.
12/18/2007
RPI 1928
Publicação anulada
#3.7
Referente à RPI 1535 de 06/06/2000.
11/21/2006
RPI 1872
Publicação do pedido de patente
#3.1
06/06/2000
RPI 1535
Publicação do pedido de patente
#3.1
04/11/2000
RPI 1527
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