Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
03/10/2015
RPI 2305
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Official data from INPI
MÉTODO DE PURIFICAÇÃO DE SILÍCIO EM FORNO DE FUSÃO POR FEIXE DE ELÉTRONS.
IndeferidaInvention Patent
Application data
Number
PI9804469Type
Invention Patent
Filing
10/21/1998
Publication
05/30/2000
Progress at the INPI
- Filing10/21/98
- Publication05/30/00
- Examination
- Refused03/10/15
- Grant
- In force
The application was refused on 03/10/2015 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/10/2015. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Universidade Estadual de Campinas - Unicamp
SP, BR
Inventors
A. B. (pessoa física)
BR
J. O. (pessoa física)
BR
P. M. (pessoa física)
BR
Technical data
IPC Classification
Abstract
"MÉTODO DE PURIFICAÇÃO DE SILÍCIO EM FORNO DE FUSÃO POR FEIXES DE ELÉTRONS", compreendendo a utilização de um forno de feixe de elétrons; o material de partida pode estar na forma de pedras, pó ou barras; o tempo de processo e a energia aplicada ao feixe de elétrons dependem da concentração inicial de impurezas na amostra; o presente método compreende que o silício (1) seja colocado em um recipiente de cobre (2) refrigerado à água (3) que pode ter qualquer geometria; o forno de feixe de elétrons contém um canhão de elétrons (4) que gera um feixe de elétrons (5).
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Anulação de publicação (variante)
#15.22
reconhecido obstáculo administrativo e devolvido o prazo de26dias, nos termos do artigo 221 § 2º da LPI e Resolução 116/2004.
12/10/2013
RPI 2240
9.2.4.1
ANULADA A PUBLICAÇÃO DA MANUTENÇÃO DO INDEFERIMENTO POR TER SIDO INDEVIDA.
04/03/2012
RPI 2152
Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
11/01/2011
RPI 2130
Indeferimento
#9.2
05/31/2011
RPI 2108
Anulação de publicação (variante)
#15.22
Devolução de Prazo Concedida - Reconhecido o obstáculo administrativo e devolvido o prazo de 22 dias, nos termos do artigo 221 parágrafo 2º da LPI e da resolução 116/04.
03/02/2010
RPI 2043
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
07/21/2009
RPI 2011
Anulação de publicação (variante)
#15.22
Reconhecido o obstáculo administrativo e devolvido o prazo de 20 dias, nos termos do artigo 221 parágrafo 2º da LPI e AN n. º 127.
02/06/2008
RPI 1935
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
07/03/2007
RPI 1904
Publicação do pedido de patente
#3.1
05/30/2000
RPI 1534
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