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Official data from INPI

PROCESSO PARA FABRICAÇÃO DE UM CONJUNTO DE ESPELHOS ATUADOS DE FILME FINO

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · KR1997000095

Application data

Number

PI9714724

Type

Invention Patent

Filing

05/27/1997

Publication

06/20/2000

PCT

KR1997000095

Progress at the INPI

  1. Filing05/27/97
  2. Publication06/20/00
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/06/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Daewoo Eletronics Co. , Ltd.

KR

Inventors

Y. M. (pessoa física)

KR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"PROCESSO PARA FABRICAÇÃO DE UM CONJUNTO DE ESPELHOS ATUADOS DE FILME FINO" Um processo inventivo para fabricação de um conjunto de M x N espelhos atuados de filme fino (401), para uso em um sistema de projeção óptico, inclui as etapas de: proporcionar um substrato (310); depositar uma camada de sacrifício de filme fino sobre a parte de topo do substrato; criação de um conjunto de M x N cavidades vazias sobre a camada de sacrifício de filme fino; depósito de uma camada elástica sobre a parte de topo da camada de sacrifício de filme fino incluindo as cavidades vazias; configuração da camada elástica em um conjunto de M x N elementos elásticos (335); formação de um conjunto de M x N dispositivos de comutação (415) sobre o substrato (310); depósito de uma camada de apassivação (340) e uma camada de interrupção de ataque químico (350); remoção da camada de interrupção de ataque químico e da camada de apassivação, seletivamente, de modo que os elementos elásticos (335) são expostos; formação de um conjunto de M x N segundos eletrodos de filme fino (365) e um conjunto de M x N elementos eletrodeslocadores de filme fino (375), sucessivamente, sobre a parte de topo de cada um dos elementos elásticos (335); formação de um conjunto de M x N estruturas de atuação; e remoção da camada de sacrifício de filme fino, para formar, assim, o conjunto de M x N espelhos atuados de filme fino (401). Para evitar dano térmico da matriz ativa, no processo inventivo, um conjunto de M x N dispositivos de comutação (415) é formado sobre o substrato (310), após todos os processos de alta temperatura tiverem sido completados, o que vai, por sua vez, reduzir a possibilidade de ocorrência de danos térmicos no conjunto de dispositivos de comutação (415).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1860 de 29/08/2006.

12/06/2011

RPI 2135

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 7ª,8ª e 9ª anuidades.

08/29/2006

RPI 1860

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

06/20/2000

RPI 1537

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