Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1836 de 14/03/2006.
12/06/2011
RPI 2135
Application data
Number
PI9714626Type
Filing
Publication
PCT
KR1997000034 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 12/06/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Daewoo Electronics CO., LTD.
KR
Inventors
Y. M. (pessoa física)
KR
Y. C. (pessoa física)
KR
IPC Classification
Abstract
''MATRIZ DE ESPELHOS ATUADA DE FILME FINO EM UM SISTEMA ÓPTICO DE PROJEÇÃO E PROCESSO PARA FABRICAR A MESMA''. A AMA de filme fino tem um substrato, um atuador, uma linha comum e um elemento refletor (180). O substrato tem uma fiação elétrica e um terminal de conexão, e o atuador tem uma camada suporte (130), um eletrodo de fundo (135) e um eletrodo de topo (145), e uma camada ativa (140). A linha comum (150) é formada sobre uma porção do atuador e é conectada ao eletrodo de topo (145). A fiação elétrica e o terminal de conexão podem não ser danificados uma vez que o atuador é formado sobre uma porção de substrato adjacente à porção onde fiação elétrica e o terminal de conexão são formados. A queda de voltagem de um segundo sinal pode ser minimizada, uma vez que a linha comum (150) é formada de forma espessa sobre uma porção do atuador, de modo que um segundo sinal suficiente é aplicado ao eletrodo de topo (145). A planura do elemento refletor (180) pode ser aprimorada, uma vez que o elemento refletor (180) é formado sobre uma segundo camada de sacrifício.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1836 de 14/03/2006.
12/06/2011
RPI 2135
#8.6
Referente a 7ª e 8ª anuidades.
03/14/2006
RPI 1836
#1.3
03/28/2000
RPI 1525
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