Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
06/08/2004
RPI 1744
Application data
Number
PI9713145Type
Filing
Publication
PCT
US1997022255 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 11/25/1997 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/08/2004. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Eastman Chemical Company
US
Inventors
B. M. (pessoa física)
US
G. R. (pessoa física)
US
J. S. (pessoa física)
US
J. F. (pessoa física)
US
M. W. (pessoa física)
US
S. H. (pessoa física)
US
W. P. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
08/976206 · 11/21/1997
US
60/031478 · 11/27/1996
Abstract
"PROCESSO, COMPOSIÇÃO ABSORVENTE DE LUZ E COMPOSTOS, DIÁCIDOS". A presente invenção relata um processo que compreende reagir em um solvente, na presença de uma base: a) pelo menos um monômero diácido compreendendo cerca de 1 a 100% em mol de pelo menos 1 monômero absorvente de luz tendo um máximo de absorção de luz entre cerca de 300 nm de 1.200 nm e de 99 a 0% em mol de um mon de um monômero não absorvente de luz que não absorve luz significante em comprimentos de onda acima de 300nm ou tem um máximo de absorção de luz abaixo de 300 nm, com b) um composto orgânico da Fórmula (II): X-B-X~ 1~em que B é um radical orgânico bivalente, para formar uma composição polimérica absorvente de luz tendo a Fórmula (I) em que B é como definido acima; n- é pelo menos 2 e A compreenden o resíduo de um monômero de ácido, compreendendo cerca de 1a 100% em mol de pelo menos um monômero, absorvente de luz tendo um máximo de absorção de luz entre cerca de 300 nm e cerca de 1000 nm e que a porção remasnescente de A compreende o resíduo de um monômero não absorvente de luz que não absorve luz significante em comprimentos de onda acima de 300 nm ou tem uma absorção de luz máxima abaixo de 300 nm.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
06/08/2004
RPI 1744
#11.1
10/21/2003
RPI 1711
#1.3
02/08/2000
RPI 1518
From the same holder
Same category
Patent monitoring
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.