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Official data from INPI

PROCESSO, COMPOSIÇÃO ABSORVENTE DE LUZ E COMPOSTOS DIÁCIDOS.

ArquivadaInvention PatentPCT · US1997022255

Application data

Number

PI9713145

Type

Invention Patent

Filing

11/25/1997

Publication

02/08/2000

PCT

US1997022255

Progress at the INPI

  1. Filing11/25/97
  2. Publication02/08/00
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 11/25/1997 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 06/08/2004. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Eastman Chemical Company

US

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Inventors

B. M. (pessoa física)

US

G. R. (pessoa física)

US

J. S. (pessoa física)

US

J. F. (pessoa física)

US

M. W. (pessoa física)

US

S. H. (pessoa física)

US

W. P. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

08/976206 · 11/21/1997

US

60/031478 · 11/27/1996

Abstract

"PROCESSO, COMPOSIÇÃO ABSORVENTE DE LUZ E COMPOSTOS, DIÁCIDOS". A presente invenção relata um processo que compreende reagir em um solvente, na presença de uma base: a) pelo menos um monômero diácido compreendendo cerca de 1 a 100% em mol de pelo menos 1 monômero absorvente de luz tendo um máximo de absorção de luz entre cerca de 300 nm de 1.200 nm e de 99 a 0% em mol de um mon de um monômero não absorvente de luz que não absorve luz significante em comprimentos de onda acima de 300nm ou tem um máximo de absorção de luz abaixo de 300 nm, com b) um composto orgânico da Fórmula (II): X-B-X~ 1~em que B é um radical orgânico bivalente, para formar uma composição polimérica absorvente de luz tendo a Fórmula (I) em que B é como definido acima; n- é pelo menos 2 e A compreenden o resíduo de um monômero de ácido, compreendendo cerca de 1a 100% em mol de pelo menos um monômero, absorvente de luz tendo um máximo de absorção de luz entre cerca de 300 nm e cerca de 1000 nm e que a porção remasnescente de A compreende o resíduo de um monômero não absorvente de luz que não absorve luz significante em comprimentos de onda acima de 300 nm ou tem uma absorção de luz máxima abaixo de 300 nm.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

06/08/2004

RPI 1744

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

10/21/2003

RPI 1711

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

02/08/2000

RPI 1518

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