Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
04/26/2005
RPI 1790
Application data
Number
PI9710610Type
Filing
Publication
PCT
US1997012729 The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/26/2005. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
The Clorox Company
US
Inventors
B. A. (pessoa física)
US
C. K. (pessoa física)
US
C. C. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
08/688563 · 07/30/1996
Abstract
"COMPOSIÇÃO DE LIMPEZA ALCALINA ISENTA DE ABRASIVOS E PROCESSOS DE PREPARAÇÃO DA MESMA E DE LIMPEZA DE UM SUBSTRATO". É provida uma composição de limpeza isenta de abrasivos, que inclui, em solução aquosa, um branqueador, um espessante coloidal e uma fonte de cálcio iônico divalente. A composição ainda inclui pelo menos um tensoativo eficaz para prover atividade de limpeza e, em associação com o espessante coloidal, espessamento. A composição também inclui um eletrólito/tampão eficaz para promover um ambiente em que espessante e o tensoativo se associam para prover um espessamento. A composição de limpeza tem uma viscosidade e propriedades reológicas, e demonstra estabilidade de viscosidade, estabilidade de fase e estabilidade de branqueamento significativas. A composição de limpeza mantém estas propriedades desejáveis sob condições de armazenamem típicas bem como por períodos extensos e em temperaturas elevadas. A figura compara a estabilidade de viscosidade das composições de limpeza providas com uma composição que não contenha cálcio iônico. Um processo de preparar uma composição de limpeza isenta de abrasivos e um processo de limpar um substrato com uma composição de limpeza isenta de abrasivos são também providos.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
04/26/2005
RPI 1790
#6.1
10/19/2004
RPI 1763
#1.3
08/17/1999
RPI 1493
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