PROCESSO PARA LIMPEZA POR REDUÇÃO DE TÊXTEIS DE POLIÉSTER TINGIDOS OU ESTAMPADOS, MISTURA, E, USO DE UMA SOLUÇÃO AQUOSA DE UMA MISTURA

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Abstract

"PROCESSO PARA LIMPEZA POR REDUÇÃO DE TÊXTEIS DE POLIÉSTER TINGIDOS OU ESTAMPADOS, MISTURAS, COMPOSIÇÀO, E, USO DE UMA SOLUÇÃO AQUOSA DE UMA MISTURA". A invenção diz respeito a um processo para a pós-limpeza de têxteis contendo poliéster colorido ou estampado e é caracterizada pelo fato de que uma mistura é adicionada como um agente de pós tratamento à solução de corante ácido ou ao banho de lavagem. dita mistura compreende como componentes: a) pelo menos um composto de fórmula (I) A~ m~[(CR^ 1^R^ 2^)~ m~SO~ 2~M]~ p,q~, em que a designa NR^ 3^~ 3-q~ ou OR^ 4^~ 2-p~, R^ 1^, R^ 2^, R^ 4^designam hidrogênio, alquila C~ 1~-C~ 6~, R^ 3^ designa grupos idênticos ou diferentes selecionados do grupo compreendendo hidrogênio, alquila C~ 1~-C~ 20~, cicloalquila C~ 3~-C~ 8~, opcionalmente substituída por entre um e três grupos de alquila C~ 1~-C~ 4~, M é um equivalente de um íon terroso de amônio, álcali ou alcalino, m é 0 ou 1, p é 1 ou 2, q é 1,2 ou 3, pelo menos um dos grupos R^ 1^, R^ 2^, R^ 4^ sendo uma alquila C~ 1~-C~ 6~ quando a representa OR^ 4^~ 2-p~, e, quando m é igual a 0: p, q assumem o valor 2, e o composto de fórmula (I) é usado em uma mistura com uma quantidade de substância de ligação ácida que é suficiente para aumentar o valor do pH da solução de corante ou banho de lavagem por entre 1 e 3 unidades; b) opcionalmente pelo menos um composto de fórmula (II) A[CR^ 1^R^ 2^)SO~ 3~M]~ p,q~, em que A, R^ 1^, R^ 2^, R^ 3^, R^ 4^, M, p e q têm as mesmas significações gerais como na fórmula (I); e c) opcionalmente outros aditivos.