Sistema e processo para remoção de filmes de superfícies metálicas.

IPC Classification

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Abstract

"SISTEMA E PROCESSO PARA REMOÇÃO DE FILMES DE SUPERFÍCIES METÁLICAS" . Para remover filmes, tais como óxidos e lubrificantes, de um substrato de metal (22), tensão mecânica ou térmica é primeiramente aplicada aos filmes, de forma a romper o filme no substrato (22). O substrato (22) é então movido através de uma célula de eletrólise (30) possuindo um ou mais elementos de eletrodo de uma polaridade elétrica espaçados do substrato móvel (22) definindo outro elemento de eletrodo com a polaridade oposta. Um sinal elétrico é aplicado aos eletrodos, e o sinal elétrico flui descendentemente para o substrato de metal (22), resultando em uma gravação ou formação de cavidades da superfície do substrato de metal (22). Seguindo a célula de eletrólise (30), o substrato móvel (22) é submerso em um fluido de cavitação. A energia, sônica ou ultra-sônica, é gerada e focalizada no substrato móvel (22) de forma que as bolhas de cavitação são formadas nas partes com cavidades do substrato de metal (22) sob o filme. Quando as bolhas de cavitação se expandem e se rompem, a onda de choque cavitacional resultante e a ação do microjato produzem um efeito de elevação no filme com relação ao substrato de metal (22).