Application data
Number
PI9706974Type
Filing
Publication
PCT
EP1997000306 The patent was granted on 06/22/2004 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/14/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Arco Chemical Technology, L.P.
US
Inventors
S. H. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
08/592,087 · 01/26/1996
Abstract
Patente de Invenção "POLIÓIS DESORDENADOS DE POLI(OXIPROPILENO/OXIETILENO), ÚTEIS NA PREPARAÇÃO DE ESPUMA DE ALTA RESILIÊNCIA FLEXÍVEL COM TENDÊNCIAS REDUZIDAS PARA RETRAÇÃO, E ESPUMA PREPARADA DELES" . As espumas de poliuretano de alta resiliência, apresentando pouca ou nenhuma retração, podem ser preparados de polióis de polioxialquileno catalisados por cianeto metálico duplo, em proporções superiores a 20 por cento em peso do componente poliol total, quando são empregados polióis desordenados de poli (oxipropileno/oxietileno) de baixa insaturação, tendo menos do que 35 por cento em peso de um bloco todo de polioxipropileno, catalisado por catalisadores de cianeto metálico duplo, e um ou mais blocos de polioxipropileno/polioxietileno) desordenados externos, cada um contendo 2 por cento em peso ou mais de partes de oxietileno, e uma isaturação inferior a 0,2 meq/g.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2394 de 22-11-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
03/14/2017
RPI 2410
#21.6
Referente à 20ª anuidade.
11/22/2016
RPI 2394
#16.1
06/22/2004
RPI 1746
#9.1
03/23/2004
RPI 1733
#6.1
10/28/2003
RPI 1712
#6.1
05/06/2003
RPI 1687
#1.3
04/06/1999
RPI 1474
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