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Official data from INPI

PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE MISTURAS POLIMÉRICAS COM BASE EM COPOLÍMEROS DE ELASTÔMERO DE EP (D) M

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI9701770

Type

Invention Patent

Filing

04/10/1997

Publication

11/10/1998

Progress at the INPI

  1. Filing04/10/97
  2. Publication11/10/98
  3. Examination
  4. Allowance05/10/05
  5. Grant08/16/05
  6. Expired04/18/17

The letters patent expired on 04/18/2017: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/18/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Enichem S.P.A.

IT

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Inventors

T. T. (pessoa física)

IT

Technical data

Priority claims

IT

MI96/A 000692 · 04/11/1996

Abstract

Patente de Invenção: "PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE MISTURAS POLIMÉRICAS COM BASE EM COPOLÍMEROS DE ELASTÔMERO DE EP (D) EM". Processo com duas ou mais etapas para a preparação em suspensão de misturas de homopolímeros de elastômero de etileno-propileno (EPM) ou terpolímeros de elastômero de etileno-propileno-dieno (EPDM) na presença de um sistema catalítico essencialmentes consistindo em um composto de Vanádio e um cocatalisador essencialmente consistindo em um alquil Alumínio e na presença de um ativador, o processo acima descrito sendo caracterizado pelo fato de que: a) na primeira etapa uma primeira polimerização dos monômeros é realizada na presença do catalisador com base em Vanádio; b) na segunda ou nas etapas subseqüentes são adicionados monômeros polimerizáveis adicionais e ativador à suspensão do polímero obtida na etapa (a).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

Patente extinta em 10/04/2017

04/18/2017

RPI 2415

Concessão da patente

#16.1

08/16/2005

RPI 1806

Deferimento

#9.1

05/10/2005

RPI 1792

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

11/03/2004

RPI 1765

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

O requerente deverá apresentar, de acordo com o art. 34 "I" da LPI, as objeções, buscas de anterioridade e resultados de exame para concessão de pedido correspondente em outros países.

05/14/2002

RPI 1636

Publicação do pedido de patente

#3.1

11/10/1998

RPI 1453

Pedido de patente depositado

#2.1

06/24/1997

RPI 1386

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