Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
01/04/2005
RPI 1774
Application data
Number
PI9701330Type
Filing
Publication
The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 01/04/2005. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
K. C. (pessoa física)
JP
Inventors
F. A. (pessoa física)
JP
H. B. (pessoa física)
JP
K. H. (pessoa física)
JP
M. A. (pessoa física)
JP
N. N. (pessoa física)
JP
N. Y. (pessoa física)
JP
Y. S. (pessoa física)
JP
Y. K. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
063319 · 03/19/1996
JP
288220 · 10/30/1996
JP
347961 · 12/26/1996
Abstract
Patente de Invenção: "PROCESSO E APARELHO PARA REFINAMENTO DE SILÍCIO" . Processo e aparelho para refinamento de silício pelo tratamento em um vaso de frafite com irradiação com um feixe de elétrons, enquanto se remove quaisquer elementos de impureza por evaporação. Uma único vaso de grafite é usado, ou vasos de grafite plurais são dispostos em seqüência. Durante o tratamento em vasos de gradite sucessivos, o silício fundido é vazado em sucessão de um vaso para o outro. O uso de vasos de grafite melhora a eficiência térmica, evita a contaminação e produz silício refinado contendo teores muito baixos de impurezas.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
01/04/2005
RPI 1774
#6.1
06/22/2004
RPI 1746
#6.6
O requerente deverá apresentar, de acordo com o art. 34 "I" da LPI, as objeções, buscas de anterioridade e resultados de exame para concessão de pedido correspondente em outros países.
05/14/2002
RPI 1636
#3.1
11/10/1998
RPI 1453
#2.1
06/10/1997
RPI 1384
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