Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI
#11.4
09/05/2006
RPI 1861
Application data
Number
PI9612061Type
Filing
Publication
PCT
JP1996003701 The application was allowed on 03/28/2006 but abandoned for failure to pay the grant fee (art. 38 of the Brazilian IP Act). The letters patent were never issued.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/05/2006. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Yamanouchi Phamaceutical Co., Ltda.
JP
Inventors
A. T. (pessoa física)
JP
H. H. (pessoa física)
JP
J. K. (pessoa física)
JP
K. S. (pessoa física)
JP
R. T. (pessoa física)
JP
S. W. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
7-332111 · 12/20/1995
Abstract
Patente de Invenção: "DERIVADOS DE ARILETENOSSULFONAMIDA E COMPOSIÇÃO DE DROGA CONTENDO O MESMO" . Um novo derivado de artiletenossulfonamida tendo uma alta afinidade por drogas, especialmente os receptores de endoserina, e representado pela fórmula geral (I); os seus saia famaceuticamente aceitáveis; e as drogas compreendendo o mesmo como o ingrediente ativo, especialmente o antagonista ao receptor de endoserina, Ar: grupo arila opcionalmente substituído ou grupo heteroarila com cinco a seis membros opcionalmente substituído; X: átomo de oxigênio, átomo de enxofre ou um grupo representado por uma fórmula -NH-; Y: átomo de oxigênio ou átomo de enxofre; R~2~: átomo de hidrogênio, grupo alquila inferior opcionalmente substittuído por halogênio, grupo cicloalquila, grupo arila opcionalmente substituído ou grupo heteroarila com cinco a seis membros opcionalmente substituído; R~2~: grupo alquila inferior, grupo alquenila inferior ou grupo alquinila inferior, onde cada um dos quais pode ser substituído pode ser substituído por um a três substituintes selecionados de um grupo consistindo em grupo hidroxila, grupo alcóxi inferior, grupo cicloalquila, átomo de halogênio, grupo carboxila e grupo alcoxicarbonila inferior; R~3~: grupo fenila, o qual pode ser substituído por um a quatro substituintes selecionados de um grupo consistindo em grupo em grupo alquila inferior opcionalmente substituído por halogênio, grupo alcóxi inferior, átomo de halogênio, grupo alquiltio inferior, grupo alquisulfinila inferior grupos alcanossulfonila inferior, grupo carboxila inferior e grupo carbomoíla; e R~4~ e R~5~: eles podem ser os mesmos ou diferentes, a cada um é átomo de hidrogênio ou alquila inferior.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.4
09/05/2006
RPI 1861
#9.1
03/28/2006
RPI 1838
#7.4
09/14/2004
RPI 1758
#6.1
12/23/2003
RPI 1720
#1.3
02/23/1999
RPI 1468
Same category
Patent monitoring
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.