Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI
#11.4
03/06/2001
RPI 1574
Application data
Number
PI9510450Type
Filing
Publication
PCT
DE1995000848 The application was allowed on 11/09/1999 but abandoned for failure to pay the grant fee (art. 38 of the Brazilian IP Act). The letters patent were never issued.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/06/2001. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
H. K. (pessoa física)
DE
Inventors
P. W. (pessoa física)
DE
IPC Classification
Priority claims
DE
195 04 941.1 · 02/15/1995
Abstract
Patente de Invenção: "TAMPÃO POROSO PARA GÁS NA FORMA DE UM DISPOSITIVO DE FLUCO INTERSTICIAL ". A invenção refere-se a um tampão poroso para gás na forma de um dispositivo de fluxo intersticial, no qual os dutos de passagem de gás são na forma de interstícios. As paredes opostas dos interstícios são monoliticamente interconectadas por pontes planas de material refratário. O tampão poroso para gás pode ser produzido por meio de um corpo oco cônico (1) cuja parade lateral (2) inclui aberturas (3). O corpo oco (1) é inserido dentro de um molde de fundição (4) que é subsequentemente enchido com um composto refratário.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.4
03/06/2001
RPI 1574
#9.1
11/09/1999
RPI 1505
#1.3
05/19/1998
RPI 1430
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