Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
03/28/2000
RPI 1525
Application data
Number
PI9505448Type
Filing
Publication
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 12/21/1995 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/28/2000. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
C. V. (pessoa física)
GR
I. Y. (pessoa física)
GR
J. Y. (pessoa física)
GR
Inventors
C. V. (pessoa física)
GR
I. Y. (pessoa física)
GR
J. Y. (pessoa física)
GR
IPC Classification
Abstract
Patente de Invenção: "MÉTODO E APARELHO PARA FORMAÇÃO DE ETILENO OU ETANO E ETILENO A PARTIR DE METANO". A invenção refere-se à dimerização oxidante do metano em etileno ou em etano e etileno por meio de sucessivo e repetido contato de uma mistura de gás e oxigênio com um catalisador adequado e com um material adsorvente poroso capaz de capturar o etano e o etileno, por meio de adsorção ou absorção, com adição intermediária de oxigênio por meio de um condutor de passagem de gás ou eletroquimicamente por meio de um eletrolítico sólido. O método pode ser aplicado tanto em aparelho de gás de recirculação como em um aparelho de fluxo contínuo, no caso do aparelho de fluxo contínuo, o gás pode ser parcialmente reciclado e também o catalisador sólido ou o adsorvente ou absorvente sólido pode ser continuamente reciclado; o etano e o etileno capturados no adsorvente ou absorvente poroso a uma temperatura menor que a temperatura do catalisador são subsequentemente liberados por meio de aquecimento enquanto um segundo coletor ou material de captura sólido reciclado é colocado em contato com a mistura gasosa e o procedimento é continuamente repetido. Esta nova invenção, em laboratório, já proporcionou um rendimento de etileno em excesso de 75% e rendimentos totais de etano e etileno (C2) em excesso de 80%.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1
03/28/2000
RPI 1525
#3.1
11/04/1997
RPI 1405
#2.1
02/27/1996
RPI 1317
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