COMPOSTO, COMPOSIÇÃO, PROCESSO PARA ESTABILIZAR MATERIAL ORGÂNICO E USO

IPC Classification

Priority claims

Abstract

Patente de Invenção: "COMPOSTO, COMPOSIÇÃO, PROCESSO PARA ESTABILIZAR MATERIAL ORGÂNICO E USO" . Os compostos da fórmula I em que R~ 1~ e R~ 5~, independentemente um do outro, são alquila de C~ 1~-C~ 12~; R~ 2~, R~ 3~ e R~ 4~, independentemente um do outro, são H: alquila de C~ 1~-C~ 12~; alquenila de C~ 2~-C~ 6~; alcóxi C~ 1~-C~ 12~; alquenilóxi de C~ 2~-C~ 18~; halogênio; triflúormetila; fenilalquila de C~ 7~-C~ 11~; fenila; fenila que é substituída por alquila de C~ 1~-C~ 18~, alcóxi de C~ 1~-C~ 18~ ou halogênio; fenóxi; ou fenóxi que é substituído por alquila de C~ 1~-C~ 18~, alcóxi de C~ 1~-C~ 18~ ou halogênio; os dois radicais R~ 7~ são idênticos ou diferentes e são hidrogênio ou alquila de C~ 1~-C~ 18~ ou são alquila de C~ 1~-C~ 18~ que é substituída por OH, alcóxi de C~ 1~-C~ 18~, alquenilóxi de C~ 3~-C~ 6~, halogênio, - COOH, -COOR~ 8~, -CONH~ 2~, -CONH~ 9~, - CON(R~ 9~) (R~ 10~), -NH~ 2~, -NHR~ 9~, -N(R~ 9~) (R~ 10~), -NH~ 2~, -NH~ 9~, -N(R~ 9~) (R~ 10~), -NHCOR~ 11~, -CN, OCO~ 11~, fenóxi e/ou fenóxi que é substituído por alquila C~ 1~-C~ 18~, alcóxi de C~ 1~-C~ 18~ ou halogênio; ou os radicais R~ 7~ são alquila de C~ 3~-C~ 50~ que é interrompida por -O- e pode ser substituida por OH, fenóxi ou alquilfenóxi de C~ 7~-C~ 18~; ou os radicais R~ 7~ são alquenila de C~ 3~-C~ 6~; glicidila; cicloalquila de C~ 5~-C~ 12~, cicloalquila de C~ 5~-C~ 12~, que é substituída por OH, alquila de C~ 1~-C~ 4~ ou -OCOR~ 11~; fenilaquila de C~ 7~-C~ 11~ que é insubstituída ou substituída por OH, CL ou CH~ 3~; alquenila de C~ 4~-C~ 14~ que é substituída por OH ou OCOR11; -COR~ 12~ ou -SO~ 2 ~ -R~ 13~; e R~ 8~ A R ~ 14~ são como definidos na reivindicação 1, são altamente adequados para estabilizar material orgânico, incluindo material de registro fotográfico.