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Official data from INPI

MATERIAL DE REGISTRO, QUE TRABALHA EM POSITIVO

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI9500283

Type

Invention Patent

Filing

01/23/1995

Publication

10/17/1995

Progress at the INPI

  1. Filing01/23/95
  2. Publication10/17/95
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/09/2002. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Agfa-Gevaert AG

DE

H. A. (pessoa física)

DE

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Inventors

A. E. (pessoa física)

DE

G. B. (pessoa física)

DE

Technical data

Priority claims

DE

P 44 01 940.8 · 01/24/1994

Abstract

A invenção refere-se a um material de registro, que trabalha em positivo, com um suporte de alumínio e uma camada mateada, sensível à radiação, que contém uma 1,2-naftoquinona-2-diazida como composto sensível à radiação e um aglutinante insolúvel em água, porém solúvel ou inchável em álcali aquoso, caracterizado pelo fato de que: - a 1,2-naftoquinona-2-diazida sensível à radiação é um éster de ácido 1,2-naftoquinona-2-diazida-4- ou 5-sulfônico e de um composto fenólico com pelo menos 2, preferencialmente pelo menos 3, grupos hidróxi fenólicos, que tem um teor de grupos hidróxi fenólicos de pelo menos 0,5 mmol/g e um teor de unidades diazóicas de pelo menos 1,5 mmoles/g; - o aglutinante é uma novalaca de fenol/formaldeído com pelo menos 5 mmol/g de grupos hidróxi fenólicos, cujo componente fenólico contém pelo menos 30% em mol de m-cresol e pelo menos 10% em mol de pelo menos um xilenol, e tem uma média ponderada de M~ w~ de 2.000 a 12.000 (determinada por meio de GPC com poliestireno como padrão) e - a camada sensível à radiação contém adicionalmente pelo menos um aditivo fenólico, que tem um peso molecular M~ w~ de no máximo 600, bem como apresenta 2 a 4 núcleos de fenila não condensados e pelo menos 6 mmoles/g de grupos hidróxi fenólicos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

07/09/2002

RPI 1644

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

08/14/2001

RPI 1597

Transferência deferida

#25.1

Transferido de: Hoechst Aktiengesellschaft

05/18/1999

RPI 1480

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/17/1995

RPI 1298

Pedido de patente depositado

#2.1

03/14/1995

RPI 1267

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