Indeferimento
#9.2
Indeferido com base no Art. 8º da LPI.
02/06/2001
RPI 1570
Application data
Number
PI9406386Type
Filing
Publication
PCT
EP1994001146 The application was refused by the INPI on 02/06/2001. The invention was never patented.
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Applicants
H. A. (pessoa física)
DE
Inventors
A. S. (pessoa física)
DE
D. F. (pessoa física)
DE
H. S. (pessoa física)
DE
J. K. (pessoa física)
IPC Classification
Priority claims
DE
P 43 14 734.8 · 05/04/1993
Abstract
patente de invenção: " MATERIAL DE FILTRO E PROCESSO PARA A REMOçÃO DE OZÔNIO DE GASES E LÍQUIDOS". Um material de filtro à base de um poliarilenotioéter com unidades repetitivas da fórmula (I): -[(Ar1)n-X]m-(Ar2)i-Y]J-[Ar3)K-Z]1-[Ar4)o-Wp-, em que Ar1, Ar2, Ar3, Ar4, W, X, Y E Z, independentemente uns dos outros, são iguais ou diferentes, os índices n, m, i, j, k, l, e p são, independentemente uns dos outros zero ou números inteiros 1, 2,3 e 4 sendo que sua soma tem que dar pelo menos 2, Ar1, Ar2, Ar3, e Ar4 são sistemas de arileno com 6 até 18 atómos de carbono e W, X, Y e Z representam grupos de ligação divalentes, escolhidos de -SO2-, -S-, -SO-, -CO-, -O-, -CO2-, grupos alquileno ou alquilideno com 1 até 6 átomos de carbono, é adequado para remoção de ozônio de gases ou líquidos. A remoção ocorre quantitativamente, sendo que não são formados quaisquer produtos voláteis.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#9.2
Indeferido com base no Art. 8º da LPI.
02/06/2001
RPI 1570
#7.1
09/08/1999
RPI 1496
#1.3
01/16/1996
RPI 1311
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