(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

COMPOSIÇÃO AQUOSA PARA A LIMPEZA DE SUPERFÍCIES MÚLTIPLAS, PROCESSO DE LIMPEZA DE SUPERFÍCIES DURAS E SUJAS, E, PROCESSO DE LIMPEZA DE SUBSTRATOS FIBROSOS SUJOS.

ArquivadaInvention PatentPCT · US1994000907

Application data

Number

PI9406028

Type

Invention Patent

Filing

01/25/1994

Publication

12/26/1995

PCT

US1994000907

Progress at the INPI

  1. Filing01/25/94
  2. Publication12/26/95
  3. Examination
  4. Allowance03/26/02
  5. Abandoned
  6. In force

The application was allowed on 03/26/2002 but abandoned for failure to pay the grant fee (art. 38 of the Brazilian IP Act). The letters patent were never issued.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 01/07/2003. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Minnesota Mining And Manufacturing Company

US

See this company's full portfolio

Inventors

J. M. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

08/039,632 · 03/30/1993

Abstract

São apresentadas composições de limpeza de superfícies múltiplas e processos de uso. As composições dentro da invenção, que são substancialmente não formadoras de estrias sobre superfícies dura, compreendem: a) um tensoativo selecionado do grupo consistindo de óxidos de amina dentro da fórmula geral da Figura (I), e sais de amina quaternária dentro da fórmula geral da Figura (II); b) um composto orgânico polar muito ligeiramente solúvel em água e, de preferência, c) uma proporção efetiva de um composto orgânico solúvel em água, selecionado de éteres de glicol solúveis em água e álcoois alquílicos solúveis em água, onde R^ 1^ e R^ 2^ são os mesmos ou diferentes e são selecionados do grupo consistindo de grupos alquila e alquila substituído, R^ 3^ é selecionado do grupo consistindo de alquilas de cadeia linear, alquilas de cadeia ramificada, heteroalquilas de cadeia linear e heteroalquilas de cadeia ramificada tendo de cerca de 10 a 20 átomos de carbono, R^ 4^ é selecionado do grupo consistindo de grupos alquila tendo de 1 a cerca de 5 átomos de carbono (de preferência, metila) e X é um átomo de halogênio, de preferência, cloro atômico.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI

#11.4

01/07/2003

RPI 1670

Deferimento

#9.1

03/26/2002

RPI 1629

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

10/30/2001

RPI 1608

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

01/23/2001

RPI 1568

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

12/26/1995

RPI 1308

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.