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Official data from INPI

MATERIAIS REFRATÁRIOS DE BIÓXIDO DE ZIRCÔNIO FUNDIDO NÃO-ESTABILIZADO, MATERIAIS REFRATÁRIOS DE BIÓXIDO DE ZIRCÔNIO FUNDIDO PARCIALMENTE OU TOTALMENTE ESTABILIZADO; PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE MATERIAIS REFRATÁRIOS DE BIÓXIDO DE ZIRCÔNIO FUNDIDO NÃO-ESTABILIZADO, OU PARCIALMENTE OU TOTALMENTE ESTABILIZADO E PRODUTOS REFRATÁRIOS

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI9402667

Type

Invention Patent

Filing

07/08/1994

Publication

05/02/1995

Progress at the INPI

  1. Filing07/08/94
  2. Publication05/02/95
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned at the INPI. The case ended without a patent and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/18/2000. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Japan Abrasive Co., Ltd

JP

K. T. (pessoa física)

JP

M. T. (pessoa física)

JP

Y. O. (pessoa física)

JP

Inventors

K. T. (pessoa física)

JP

M. T. (pessoa física)

JP

Y. O. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

JP

5-169212 · 07/08/1993

Abstract

Materiais refratários de bióxido de zircônio fundidos tendo teor inferior de SiO~ 2~, elevada resistência de partícula e dureza e menor teor de elementos radioativos, particularmente materiais refratários de bióxido de zircônio fundido não estabilizado, parcialmente ou totalmente estabilizado obtidos de bióxido de zircônio dessilicado derivado de zircão tendo 0,01 - 0,5% em peso de SiO~ 2~, tamanho de cristal maior do que 50 um ou 300 um, resistência de partícula de 30kgf, dureza de pelo menos 10 ou 11 GPa e os mesmos materiais tendo uma quantidade total de U e Th sendo abaixo de 1.000 ppm, e produtos refratários utilizando os referidos materiais bem como um processo para a produção dos referidos materiais por um processo de eletrofusão.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

11.30

04/18/2000

RPI 1528

11.14

Referente a publicação 11.1 efetuada na RPI 1521 de 29/02/2000

04/11/2000

RPI 1527

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

02/29/2000

RPI 1521

Publicação do pedido de patente

#3.1

05/02/1995

RPI 1274

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