Official data from INPI

COMPOSTO, E, MATERIAL FOTOTERMOGRÁFICO

ArquivadaInvention Patent

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Application data

Number

PI9400029

Type

Invention Patent

Filing

01/05/1994

Publication

08/02/1994

View on INPI

Progress at the INPI

Filing01/05/94
Publication08/02/94
Abandoned02/12/97
Allowance
Grant
In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/03/1999. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Minnesota Mining and Manufacturing Company

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Inventors

M. K. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

C07D 417/04

Priority claims

93.00147 · 01/06/1993

Abstract

Patente de Invenção "COMPOSTO, E, MATERIAL FOTOTERMOGRÁFICO". Um composto da fórmula geral da Fig. I em que: R é um elemento selecionado entre um átomo de hidrogênio, um grupo alquila, um grupo arila ou um grupo heterocíclico. Os compostos encontram utilidade como anti-formadores de névoa e estabilizadores de imagem em materiais fototermográficos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

11/03/1999

RPI 1504

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

03/09/1999

RPI 1470

Solicitação de exame técnico

#4.1

02/12/1997

RPI 1367

Publicação do pedido de patente

#3.1

08/02/1994

RPI 1235

Pedido de patente depositado

#2.1

02/22/1994

RPI 1212

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