(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

PROCESSO PARA PREPARAÇÃO DE COMPOSTOS

IndeferidaInvention Patent

Application data

Number

PI9307963

Type

Invention Patent

Filing

06/24/1993

Publication

01/11/1994

Progress at the INPI

Under appeal
  1. Filing06/24/93
  2. Publication01/11/94
  3. Examination06/25/96
  4. Refused01/30/01
  5. Grant
  6. In force

The application was refused by the INPI on 01/30/2001. The invention was never patented.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 01/30/2001. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Sanofi

FR

See this company's full portfolio

Inventors

C. W. (pessoa física)

FR

C. G. (pessoa física)

FR

D. G. (pessoa física)

FR

G. V. (pessoa física)

FR

G. C. (pessoa física)

FR

P. R. (pessoa física)

FR

Technical data

IPC Classification

Priority claims

FR

92 07736 · 06/24/1992

Abstract

Patente de Invenção: "PROCESSO PARA PREPARAÇÃO DE COMPOSTOS" . Revela-se um processo para preparação de compostos de fórmula I: na qual, - R~ 1~ representa um radical de fórmula A~ 1~ ou um radical de fórmula A~ 2~: (nas quais X, Y, Z, idênticos ou diferentes, representam, cada um, um átomo de hidrogênio, um átomo de halogênio, um radical alcóxi de 1 a 5 átomos de carbono, um radical alquila de 1 a 5 átomos de carbono, um radical hidróxi, um radical ciano, um radical nitro, um radical trifluorometila ou um radical aralquila de 7 a 9 átomos de carbono), - R~ 2~ representa um átomo de hidrogênio, um átomo de halogênio, um radical de 1 a 5 átomos de carbono, um radical hidroximetila ou um radical formila, - R~ 3~ representa um radical alquila de 1 a 5 átomos de carbono, um radical cicloalquila de 3 a 8 átomos de carbono, um radical alquenila de 2 a 6 átomos de carbono, um radical cicloalquilalquila de 4 a 8 átomos de carbono, ou um radical fenila, - R~ 4~ representa um átomo de hidrogênio, um radical alquila de 2 a 5 átomos de carbono, um radical cicloalquila de 3 a 6 átomos de carbono, ou um radical cicloalquil alquila de 4 a 8 átomos de carbono tendo uma cadeia linear ou ramificada, - R~ 5~ representa um radical alquila de 1 a 5 átomos de carbono, um radical cicloalquila de 3 a 8 átomos de carbono eventualmente substituído por radicais alquila de 1 a 5 átomos de carbono, um radical cicloalquil alquila de 4 a 8 átomos de carbono que tem uma cadeia linear ou ramificada, um radical alquenila de 2 a 6 átomos de carbono, ou um radical de fórmula B: (na qual p é igual a 0, 1, 2 ou 3), R~ 6~ representa um radical fenila, um radical piridila, um radical imidazolila, um radical pirrolila, um radical tienila ou um radical furila (eventualmente substituídos por um ou vários átomos de halogênio, por radicais alcóxi de 1 a 5 átomos de carbono, por radicais alquila de 1 a 5 átomos de carbono, por radicais, hidróxi, por radicais ciano, por radicais nitro, por radicais trifluorometila, por radicais metiltio ou por radicais de fórmula B), ou um radical cicloalquila de 3 a 8 átomos de carbono eventualmente substituído por radicais alquila de 1 a 5 átomos de carbono, - m, n, idênticos ou diferentes, cada um representando 0 ou 1, seus estereoisômeros e seus sais de adição com um ácido mineral ou orgânico, o dito processo sendo caracterizado pelo fato de que se faz reagir um derivado carbonilado alfa-halogenado de fórmula II: na qual R~ 1~ tem o mesmo significado dado acima para a fórmula I, e R'~ 2~ representa um átomo de hidrogênio ou um radical alquila de 1 a 5 átomos de carbono, e Hal representa um átomo de halogênio, ou com uma tiouréia de fórmula III: para formar um composto de fórmula I': na qual - R~ 1~, R~ 3~, R~ 4~, R~ 5~, m e n têm o mesmo significado dado acima para a fórmula I, - R'~ 2~ tem o significado dado para a fórmula II, e - R'~ 6~ tem o significado dado para a fórmula III, ou com uma tiouréia de fórmula III~ A~ na qual R~ 4~, R~ 5~, m e n têm o mesmo significado dado acima para a fórmula I, e R'~ 6~ tem o significado dado para a fórmula III, para formar os compostos de fórmula IV: na qual R~ 1~, R~ 4~, R~ 5~, m e n têm o mesmo significado dado acima para a fórmula I, R'~ 2~ tem o significado dado para a fórmula II e R'~ 6~ tem o significado dado para a fórmula III, o qual se faz reagir com um halogeneto de fórmula V: Hal-r~ 3~ na qual Hal representa um átomo de halogênio e R~ 3~ têm o mesmo significado dado acima para a fórmula I, para formar o composto de fórmula I', e, em seguida, - submetem-se os compostos de fórmula I', na qual R'~ 2~ representa um átomo de hidrogênio, * ou à ação de um halogênio, para formar os compostos de fórmula I, na qual R~ 2~ representa um átomo de halogênio, os quais, em seguida, quando R~ 2~ representa um átomo de bromo, podem ser submetidos à ação de um outro halogênio, para formar os compostos de fórmula I na qual R~ 2~ representa este átomo de halogênio, * ou à ação de cloreto de oxalila para preparar os compostos de fórmula I, na qual R~ 2~ representa um radical formila, os quais podem ser submetidos a uma redução para obter os compostos de fórmula I, na qual R~ 2~ representa um radical hidroximetila, ou - submetem-se os compostos de fórmula I na qual R'~ 6~ representa um radical R~ 6~ contendo funções com átomos de nitrogênio reativos tendo um grupo protetor, a uma hidrólise ácida, para obter os compostos de fórmula I, na qual R~ 6~ representa um radical contendo uma amina primária ou secundária, e, se for o caso, os compostos de fórmula I, de acordo com a reivindicação 1. São, em seguida, separados em seus estereoisômeros possíveis e/ou salificados por um ácido orgânico ou mineral para formar os sais correspondentes.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Indeferimento

#9.2

Indeferido o pedido com base no disposto no Artigo 37 combinado com o Artigo 229 ( segundo a redação dada pela MP 2105-14 de 27/12/2000) da LPI nº 9279 de 14/05/1996.

01/30/2001

RPI 1569

Notificação de pedido dividido

#2.4

Pedido publicado (3.1) na RPI 1206 de 11/01/94, pedido de exame (4.1) publicado na RPI 1334 de 25/06/96 e ciência de parecer técnico (7.1) publicada na RPI 1480 de 18/05/99

12/19/2000

RPI 1563

Solicitação de exame técnico

#4.1

06/25/1996

RPI 1334

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/11/1994

RPI 1206

Pedido de patente depositado

#2.1

08/03/1993

RPI 1183

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.