COMPOSIÇÃO PARA REVESTIMENTO DE LIBERAÇÃO, SUBSTRATO, E, PROCESSO DE FORMAÇÃO DE UM SUBSTRATO REVESTIDO COM REVESTIMENTO DE LIBERAÇÃO

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Abstract

Patente de Invenção "COMPOSIÇÃO PARA REVESTIMETO DE LIBERAÇÃO, SUBSTRATO, E, PROCESSO DE FORMAÇÃO DE UM SUBSTRATO REVESTIDO COM REVESTIMENTO DE LIBERAÇÃO". Uma composição para revestimeto de liberação que compreende: (a) um polidiorganossiloxano que tem pelo menos um grupo a hidrolisável reativo ligado a um átomo de silício, em R^ 3^ é um grupo alquila monovalente que compreende aproximadamente 1 até 3 átomos de carbono; Z é um grupamento monovalente selecionado do grupo que consiste de -OR e -R em que R é um grupo alquila que tem aproximadamente 1 a 3 átomos de carbono; Y é um grupo de ligação alquileno divalente que compreende aproximadamente 12 átomos de carbono; Q é um grupo de ligação divalente selecionado entre uréia, amida, uretana, tiuretana, éter e tioéter; t é um número inteiro de 0 a 10; e X é um grupo de ligação alquileno divalente compreendendo aproximadamente 1 a 12 átomos de carbono; b) um componente selecionado do grupo de compostos de fórmula geral (R^ 3Ô)~ 3~-Si-A, hidrolisados dos mesmos, e misturas dos mesmos, em que R^ 3^ é como definido antes; A é um grupamento monovalente selecionado do grupo que consiste de -OR^ 3^, grupo alquila com aproximadamente 1 a 20 átomos de carbono, e -X-(Q)~ p~ - [D-Q~ h~ - (Y)~ b~ - Si- COR^ 3^)~ 3~ em que X, Q, t, Y e R^ 3^ são como definidos antes; D é um grupo divalente selecionado entre grupos alquileno com aproximadamente 2 a 30 átomos de carbono; grupos aralquileno com aproximadamente 6 a 30 átomos de carbono; grupos arileno com aproximadamente 6 até 30 átomos de carbono; e segmentos poliméricos divalenes que têm um peso molecular numérico médio de aproximadamente 500 até 10.000 selecionado entre poliéter, poliolefina, poliéster, polidieno e misturas dos mesmos; p é 0 ou 1; b é 0 ou 1; em que quando t é um número inteiro de 1 a 10, b deve ser igual a 1 e p deve ser igual a 1; em que quando t=0 e b=0, p deve também ser igual a 0; e (c) um componente selecionado entre ácidos que têm pKas menores do que aproximadamente 3, anidridos de ácidos que têm pKas menores do que aproximadamente 3, sais de amônio e de alquil amônio inferior de ácido que tem pKa menor do que aproximadamente 3, e misturas dos mesmos. A composição para revestimento de liberação da invenção tem excelente estabilidade e estocagem e estabilidade do banho e cura rapidamente, completamente e confiavelmnete em umidade atmosférica de uma maneira controlável quando aplicada como revestimento sobre uma variedade de substratos.