COMPOSTOS, POLÍMEROS, MISTURA SENSÍVEL À RADIAÇÃO E MATERIAL DE REGISTRO

IPC Classification

Priority claims

Abstract

A invenção refere-se a monômeros das fórmulas R^ 1^-SO~ 2~-N(CO-OR^ 2^)-R^ 3^-O-CO-CR^ 4^=CH~ 2~ e R^ 1^-N(CO-OR^ 2^)-SO~ 2~-R^ 3^-O-CO-CR^ 4^=CH~ 2~, nas quais R^ 1^ representa um radical (C~ 1~-C~ 20~)alquila, (C~ 3~-C~ 10~)cicloalquila, (C~ 6~-C~ 14~)arila ou (C~ 7~-C~ 20~)aralquila, sendo que, nos radicais contendo alquila, grupos metileno isolados podem estar substituídos por heteroátomos, R^ 2^ representa um radical (C~ 3~-C~ 11~)alquila, (C~ 3~-C~ 11~)alquenila ou (C~ 7~-C~ 11~)aralquila, R^ 3^ representa um radical (C~ 1~-C~ 6~)alquila, (C~ 3~-C~ 6~)cicloalquila, (C~ 6~-C~ 14~)arila ou (C~ 7~-C~ 20~)aralquila substituído ou não substituído e R^ 4^ representa um átomo de hidrogênio ou um grupo metila. Além disso, ela refere-se a polímeros com pelo menos 5% em mol de unidades com grupos laterais da(s) fórmula(s) -R^ 3^-N(CO-OR^ 2^)-SO~ 2~-R^ 1^ (I) e/ou -R^ 3^-SO~ 2~-N(CO-OR^ 2^)-R^ 1^ (II), bem como a uma mistura sensível à radiação contendo a) um composto formador de ácido sob o efeito de radiação actínica, b) um composto que cliva ácido, cujos produtos de clivagem apresentam, em um revelador alcalino-aquoso, uma solubilidade maior que a do composto de partida, em que o composto que cliva ácido é um polímero do tipo mencionado, bem como a um material de registro com um suporte e uma camada sensível à radiação. A mistura de acordo com a invenção presta-se particularmente para a preparação de chapas de impressão offset e fotoresists.