SULFONAMIDAS N,N-DISSUBSTITUÍDAS, MISTURA SENSÍVEL À RADIAÇÃO E MATERIAL DE REGISTRO

IPC Classification

Priority claims

Abstract

A invenção refere-se a sulfonamidas N,N-dissubstituídas das fórmulas gerais R^ 1^(-N(CO-OR^ 2^)-SO~ 2~-R^ 3^)~ n~ e R^ 1^(-SO~ 2~-N(CO-OR^ 2^)-R^ 3^)~ n~ (II), em que R^ 1^, no caso de n=1, é um radical (C~ 1~-C~ 20~)alquila, (C~ 3~-C~ 10~)cicloalquila, (C~ 6~-C~ 14~)arila ou (C~ 7~-C~ 20~)aralquila, e, no caso de n > 1, é o radical 2-, 3- ou 4-valente de um (C~ 1~-C~ 20~)alcano ou (C~ 5~-C~ 7~)cicloalcano, de um (C~ 6~-C~ 18~)aromático mono- ou poli-nuclear, condensado ou não condensado, R^ 2^ é um radical (C~ 3~-C~ 11~)alquila, (C~ 3~-C~ 11~)alquenila ou (C~ 7~-C~ 11~)aralquila, R^ 3^ é um radical (C~ 1~-C~ 6~)alquila, (C~ 3~-C~ 6~)cicloalquila, (C~ 6~-C~ 14~)arila ou (C~ 7~-C~ 20~)aralquila substituído ou não substituído. Além disso, a invenção refere-se a uma mistura sensível à radiação trabalhando positivamente, contendo a) um composto que forma ácidos sob o efeito de radiação actínica, b) um composto que cliva ácido, cujos produtos de clivagem apresentam, em um revelador alcalino-aquoso, uma solubilidade maior que a do composto de partida, e c) um aglutinante polímero, pelo menos intumescível, insolúvel em água, solúvel, em contrapartida, em soluções alcalinas-aquosas, sendo que o composto b) representa uma sulfonamida da fórmula I ou II. A mistura de acordo com a invenção adequa-se, particularmente, para a preparação de chapas de impressão offset e fotoresists.