COMPOSIÇÕES SENSÍVEIS À RADIAÇÃO, SUA APLICAÇÃO, MOLDES DE IMPRESSÃO, CIRCUITOS IMPRESSOS, CIRCUITOS INTEGRADOS OU FILMES FOTOGRÁFICOS SEM PRATA

IPC Classification

Priority claims

Abstract

Composições sensíveis à radiação, contendo (a) um poliéster contendo unidades estruturais repetitivas da fórmula (I) (vide fórmula I), na qual Z representa um radical das fórmulas (IIa)-(IIh) (vide fórmula) na qual Y representa uma ligação direta, C1-C~ 20~ -alquileno, fenileno, -CH~ 2~ -C~ 6~ H~ 4~ -CH~ 2~ -, ciclopentileno ou ciclohexileno e R~ 1~ e R~ 2~ independentemente um do outro, representam hidrogênio, metila ou etila, com a condição, de que R~ 1~ e R~ 2~ não sejam simultaneamente hidrogênio, e (b) uma substância formadora de ácido sob ação de radiação actínica, formam uma formulação de fotoresist positiva altamente sensível com alto poder de dissolução, que é adequada para a litografia DUV e especialmente para a preparação de circuitos integrados.