Application data
Number
PI9201351Type
Filing
Publication
The patent was granted on 11/24/1998 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 01/24/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
I. C. (pessoa física)
US
Inventors
D. S. (pessoa física)
US
J. R. (pessoa física)
US
P. P. (pessoa física)
US
P. L. (pessoa física)
US
S. P. (pessoa física)
US
T. L. (pessoa física)
US
T. M. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
690.171 · 04/19/1991
Abstract
Descreve-se uma deposição por vaporização catódica, na qual aberturas (50) com elevada relação de aspecto são revestidas com películas condutoras (40) que apresentam baixa resistividade em massa, baixas concentrações de impurezas e morfologias regulares. Usa-se um colimador (60) que possui uma relação de aspecto que se aproxima da relação de aspecto das aberturas. A espessura da película resultante no fundo da abertura é de pelo menos 2 vezes maior do que a que pode ser obtida usando-se métodos convencionais de vaporização catódica.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2342 de 24-11-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
01/24/2017
RPI 2403
#21.6
Referente às 19ª e 20ª anuidades. Pagar restauração.
11/24/2015
RPI 2342
referente a 14ª,15ª,16ª,17ª,18ª e 19ª anuidades
03/09/2011
RPI 2096
#16.1
11/24/1998
RPI 1455
#9.1
05/12/1998
RPI 1429
#4.1
02/07/1995
RPI 1262
#3.1
12/01/1992
RPI 1148
#2.1
05/19/1992
RPI 1120
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