Carta-patente expirada
#21.1
Patente extinte em 20/11/2011
06/18/2013
RPI 2215
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Official data from INPI
PROCESSO PARA PREPARAR UM COPOLÍMERO RANDÔMICO TENSOATIVO E PROCESSO PARA PREPARAR UM MACROMONÔMERO TENSOATIVO
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US1991008728
Application data
Number
PI9107133Type
Invention Patent
Filing
11/20/1991
Publication
03/22/1994
PCT
US1991008728 Progress at the INPI
- Filing11/20/91
- Publication03/22/94
- Examination08/23/94
- Allowance08/17/99
- Grant12/28/99
- Expired06/18/13
The letters patent expired on 06/18/2013: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/18/2013. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Bausch & Lomb Incorporated
US
Inventors
J. M. (pessoa física)
US
P. J. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
618.450 · 11/27/1990
Abstract
Trata-se de tensoativos polimerizáveis, utilizáveis na modificação das superfícies de objetos poliméricos, os quais são descritos pela fórmula: DC[A~ x~ B~ y~] na qual A é pelo menos um monômero hidrofílico etilenicamente insaturado, B é pelo menos um monômero hidrofóbico etilenicamente insaturado, C é um agente de transferência de cadeia funcional, D é um grupo terminal etilenicamente insaturado, y fica compreendido dentro da faixa de aproximadamente 0,1 a aproximadamente 0,9, e x + y = 1. Trata-se também de precursores de copolímeros randômicos desses tensoativos polimerizáveis.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Alteração de sede deferida
#25.7
Sede Alterada Conforme Solicitado na Petição nº 024313-RJ de 14.07.2000
05/18/2004
RPI 1741
Concessão da patente
#16.1
12/28/1999
RPI 1512
Deferimento
#9.1
08/17/1999
RPI 1493
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
12/22/1998
RPI 1459
Solicitação de exame técnico
#4.1
08/23/1994
RPI 1238
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
03/22/1994
RPI 1216
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