(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

VÁLVULA ESFÉRICA TENDO CAPACIDADE DE ALCANCE INERENTE APERFEIÇOADA

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI9104326

Type

Invention Patent

Filing

10/08/1991

Publication

11/24/1992

Progress at the INPI

  1. Filing10/08/91
  2. Publication11/24/92
  3. Examination01/11/94
  4. Allowance05/09/95
  5. Grant12/26/95
  6. Expired06/29/10

The letters patent expired on 06/29/2010: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 06/29/2010. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

W. C. (pessoa física)

US

Inventors

D. R. (pessoa física)

US

R. O. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

07/666,921 · 03/11/1991

Abstract

Uma válvula esférica tendo capacidade de alcance inerente aperfeiçoada, compreende uma esfera flutuante de desenho convencional que é giratória através substancialmente de 90° entre um par de assentos respectivamente localizados adjacente aos lados a montante e a jusante da válvula dentro de um alojamento de válvula. Pelo menos um dos assentos é um assento de metal impregnado com lubrificante de uma peça configurado para propiciar uma porção de superfície central côncava que faz contato de vedação direto de face total com a esfera, e que define múltipos orifícios espaçados que se estendem através do assento para aumentar o contato de fluido com metal de fluido passando através do assento desse modo para reduzir a pressão entre os lados à montante e à jusante da válvula. O padrão de orifícios pode ser tal de modo a fazer com que a válvula apresente uma percentagem igual de característica de fluxo para pelo menos uma porção da rotação da esfera e/ou uma característica de fluxo linear para pelo menos uma porção da rotação da esfera. Quando apenas um tal assento de múltiplos orifícios é utilizado na válvula, o outro assento pode ser um assento de fundos redondos, padrão, ou um assento fendilhado, ou um assento em V. Em cada caso, o contato de vedação direto entre a esfera e o assento de múltiplos orifícios evita vazamento de fluido a partir do furo da esfera através de quaisquer furos no assento que são cobertos por uma porção de superfície da esfera pelo que a válvula apresenta capacidade de alcance inerente aperfeiçoada.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

Patente extinta em 08/10/2006

06/29/2010

RPI 2060

Concessão da patente

#16.1

12/26/1995

RPI 1308

Notificação para pagamento de retribuição

#13.1

09/26/1995

RPI 1295

Deferimento

#9.1

05/09/1995

RPI 1275

Solicitação de exame técnico

#4.1

01/11/1994

RPI 1206

Publicação do pedido de patente

#3.1

11/24/1992

RPI 1147

Pedido de patente depositado

#2.1

11/12/1991

RPI 1093

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.