Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
10/27/1987
RPI 888
Back to search
Official data from INPI
COMPOSICAO DESTINADA A MELHORAR A RESISTENCIA EM FUSAO E A PROCESSABILIDADE DE POLIMEROS FORMADOS A PARTIR DE PELO MENOS UM COMPOSTO ETILENICAMENTE INSATURADO CONTENDO HALOGENIO,E,COMPOSICAO POLIMERA CONTENDO HALOGENIO
ArquivadaInvention Patent
Progress at the INPI
- Filing11/13/78
- Publication
- Abandoned12/22/81
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 10/27/1987. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
M & T CHEMICALS INC
Inventors
No inventors listed.
Technical data
IPC Classification
No IPC classification.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
05/05/1987
RPI 863
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
01/17/1984
RPI 691
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
06/22/1982
RPI 609
Solicitação de exame técnico
#4.1
12/22/1981
RPI 583
Related
From the same holder
ESPUMA DE POLIURETANA ESTAVEL A OXIDACAO E PROCESSO PARA PREPARAR A MESMAPROCESSO PARA A PREPARACAO DE UM ELETRODEPOSITO QUE CONTEM NIQUEL BRILHANTE E SOLUCAO DE ELETRODEPOSICAOCOMPOSICAO DE TINTA PARA PINTURACOMPOSICAO APERFEICOADA PARA CONFERIR ESTABILIDADE TERMICA A POLIMEROS,CONTENDO HALOGENIO,DE HIDROCARBONETOS ETILENICAMENTE INSATURADOS,BEM COMO A RESPECTIVA COMPOSICAO POLIMERA ESTABILIZADACOMPOSTO ORGANICO DE ESTANHO E COMPOSICAO DE POLIMERO DE CLORETO DE VINILA ESTABILIZADA TERMICAMENTECOMPOSICAO CATALITICA DE GEL PARA PREPARACAO DE ESPUMAS RIGIDAS DE POLIURETANA E PROCESSO APERFEICOADO PARA PREPARACAO DE ESPUMAS RIGIDAS DE POLIURETANAPROCESSO PARA A OBTENCAO DE COPOLIESTERES ALQUILAROMATICOS
Patent monitoring
Track this patent in real time.
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.