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Official data from INPI

ANODO PARA ELETRÓLISE E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DO MESMO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI1102196

Type

Invention Patent

Filing

05/23/2011

Publication

11/06/2012

Progress at the INPI

  1. Filing05/23/11
  2. Publication11/06/12
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/16/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Permelec Electrode Ltd

JP

Inventors

T. H. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2010-119245 · 05/25/2010

Abstract

ANODO PARA ELETRÓLISE E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DO MESMO. A presente invenção tem o objetivo de proporcionar um anodo para eletrólise por um processo de membrana de troca de íon e o método de fabricação do mesmo que pode mostrar a concentração mais baixa de subproduto de gás oxigênio em gás de cloro e a sobretensão mais baixa estável por um longo período de tempo, comparado com anodos convencionais. Solução do problema. A presente invenção se refere à preparação de um anodo para eletrólise, compreendendo um substrato compreendendo titánio ou liga de titânio e uma pluralidade de camadas de revestimento proporcionada pelo método de cocção de decomposição térmica na superfície do substrato, em que a camada de revestimento compreende uma primeira camada de revestimento compreendendo uma mistura de óxido de iridio, óxido de rutênio e óxido de titânio, proporcionada na superfície do substrato, uma segunda camada de revestimento compreendendo uma mistura de óxido de platina e índio, proporcionada na primeira camada de revestimento, a camada unitária compreendendo uma primeira camada de revestimento e uma segunda camada de revestimento, proporcionada na superfície da segunda camada de revestimento por uma única ou uma pluralidade de camadas, a a segunda camada de revestimento, proporcionada na camada mais externa da camada unitária; uma pluralidade de camadas é proporcionada na superfície do substrato por meio do método de cocção de decomposição térmica e a camada de revestimento é seguida por pós-cocção a uma temperatura de cocção mais elevada do que a anteriormente aplicada no método de cocção de decomposição térmica.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2516 de 26-03-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

07/16/2019

RPI 2532

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 8ª anuidade.

03/26/2019

RPI 2516

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

04/10/2018

RPI 2466

Publicação do pedido de patente

#3.1

11/06/2012

RPI 2183

Pedido de patente depositado

#2.1

06/05/2012

RPI 2161

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 20110053202 em 23/05/2011 05:02(RJ).

12/27/2011

RPI 2138

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