DISPOSITIVO COMPREENDENDO CONFINAMENTO ELESTROSTÁTICO DE PLASMA, PROCESSO DE TRATAMENTOS SUPERFICIAIS E SUPERFÍCIES TRATADAS POR TAL PROCESSO

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Abstract

DISPOSITIVO COMPREENDENDO CONFINAMENTO ELETROSTÁTICO DE PLASMA, PROCESSO DE TRATAMENTOS SUPERFICIAIS E SUPERFÍCIES TRATADAS POR TAL PROCESSO. A presente invenção descreve um dispositivo de utilização do efeito de confinamento eletrostático de plasma pela técnica de catodo oco segmentado, também descreve um processo de tratamentos superficiais, visando aumentar a trajetória dos elétrons entre o cátodo e o ânodo, e assim aumentar a densidade do plasma, incrementar sua reatividade (plasmas mais densos e homogêneos); selecionar a energia ótima para gerar espécies ativas e o potencial ótimo para o bombardeio de lons. A presente invenção também descreve superfícies tratadas por tal processo.