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Official data from INPI

DISPOSITIVO ESPAÇADOR DE CABOS DE ALTA TENSÃO E PROCESSO PARA SUA OBTENÇÃO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI1015807

Type

Invention Patent

Filing

12/28/2010

Publication

07/28/2015

Progress at the INPI

  1. Filing12/28/10
  2. Publication07/28/15
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 02/21/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Furnas Centrais Elétricas S.A

RJ, BR

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Inventors

C. G. (pessoa física)

BR

F. D. (pessoa física)

BR

J. S. (pessoa física)

BR

P. E. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

DISPOSITIVO ESPAÇADOR DE CABOS DE ALTA TENSÃO E PROCESSO PARA SUA OBTENÇÃO. A presente invenção proporciona espaçadores de cabos de alta tensão e o processo para sua obtenção. Os espaçadores da invenção proporcionam o espaçamento de pelo menos seis cabos de de alta tensão e compreendem uma configuração radialmente e horizontalmente assimétrica, que evita corona entre os condutores de linhas de transmissão de alta potência.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2391 de 01-11-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

02/21/2017

RPI 2407

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 6ª anuidade.

11/01/2016

RPI 2391

Publicação do pedido de patente

#3.1

07/28/2015

RPI 2325

Pedido de patente depositado

#2.1

06/16/2015

RPI 2319

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

09/09/2014

RPI 2279

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 20100120915 em 28/12/2010 03:43(RJ).

10/16/2012

RPI 2180

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