Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 09/09/2010, observadas as condições legais
08/11/2020
RPI 2588
Application data
Number
PI1005443Type
Filing
Publication
PCT
NO2010000332 The patent was granted on 08/11/2020 and is in force until 09/09/2030. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:09/09/2030
Latest action published by the INPI: 08/11/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
E. A. (pessoa física)
NO
R. A. (pessoa física)
NO
Inventors
K. Z. (pessoa física)
CA
IPC Classification
Priority claims
NO
20093054 · 09/23/2009
Abstract
MÃTODO PARA A PRODUÃÃO DE SILÃCIO DE ELEVADA PUREZA.A presente invenção se refere a um método para a produção de silÃcio de elevada pureza que compreende prover silÃcio em fusão contendo de 1 a 10% em peso de cálcio, vazar o silÃcio em fusão, triturar o silÃcio e submeter o silÃcio triturado a urna primeira etapa de lixiviação em urna solução aquosa de HCl e/ou HCl +FeCl3 e a uma segunda etapa de lixiviação em urna solução aquosa de HF e HN03. As partÃculas de silÃcio lixiviadas são depois disso submetidas a um tratamento térmico a urna temperatura de entre 1250°C e 1420°C por um perÃodo de pelo menos 20 minutos e o silÃcio que passou pelo tratamento térmico é submetido a uma terceira etapa de lixiviação em urna solução aquosa de HF e HNO3.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 09/09/2010, observadas as condições legais
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