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Official data from INPI

PLACA DE ELETRODO PARA A GERAÇÃO DE HIDROGÊNIO E OXIGÊNIO E RESPECTIVO MÉTODO DE FABRICAÇÃO

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI1004327

Type

Invention Patent

Filing

02/01/2010

Publication

02/14/2012

Progress at the INPI

  1. Filing02/01/10
  2. Publication02/14/12
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 02/01/2010 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/23/2013. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

HWANG, BOO-SUNG

KR

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Inventors

H. B. (pessoa física)

KR

Technical data

IPC Classification

Priority claims

KR

10-2009-0013342 · 02/18/2009

Abstract

PLACA DE ELETRODO PARA A GERAÇÃO DE HIDROGÊNIO E OXIGÊNIO E RESPECTIVO MÉTODO DE FABRICAÇÃO. A presente invenção refere-se a uma placa de eletrodo para a geração de hidrogênio e oxigênio e respectivo método de fabricação. A placa de eletrodo para a geração de hidrogênio e oxigênio compreende TiO2, Co~2~O~3~, Cr~2~O~3~, NiO, tubo de nano carbono, Ni ou Cr e catalisador cerâmico, sendo que TiO~2~, Co~2~O~3~, Cr~2~O~3~, NiO, tubo de nano carbono, Ni ou Cr e catalisador cerâmico são prensados na forma de pó e são solidificados e plastificados em um forno de plastificação a vácuo, O método para a geração de hidrogênio e oxigênio compreende uma etapa (S1), em que os tipos de pó de TiO~2~, Co~2~O~3~, Cr~2~O~3~, NiO, tubo de nano carbono, Ni ou Cr e catalisador cerâmico são uniformemente misturados para formar um composto misturado com um grau elevado de distribuição; uma etapa (S2), em que o composto misturado é introduzido em um molde e prensado para formar um material sólido do tipo prensado; e uma etapa (S3), em que o material de prensagem é plastificado em um forno de plastificação a vácuo.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

07/23/2013

RPI 2220

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

04/30/2013

RPI 2208

Publicação do pedido de patente

#3.1

02/14/2012

RPI 2145

Pedido de patente depositado

#2.1

08/02/2011

RPI 2117

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